-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100514162C
公开(公告)日：2009-07-15
申请号：CN200410071269.5
申请日：2004-07-16
Applicant: 信越化学工业株式会社
CPC classification number: B24D13/10 , G03F1/60 , G03F7/70791 , Y10T428/10 , Y10T428/24355 , Y10T428/24777 , Y10T428/315
Abstract: 一种适用于曝光的大尺寸基板，其为具有500-2000mm对角线长度或直径、1-20mm厚度且有0.05-0.4μm粗糙度的周边表面的板形形状。清洗期间从基板释放的微粒数最小，导致清洗步骤中提高产量。能够手工操作基板，无需操作机构实现了基板质量的改善。
-
公开(公告)号：CN1577029A
公开(公告)日：2005-02-09
申请号：CN200410071269.5
申请日：2004-07-16
Applicant: 信越化学工业株式会社
CPC classification number: B24D13/10 , G03F1/60 , G03F7/70791 , Y10T428/10 , Y10T428/24355 , Y10T428/24777 , Y10T428/315
Abstract: 一种适用于曝光的大尺寸基板，其为具有500－2000mm对角线长度或直径、1－20mm厚度且有0.05－0.4μm粗糙度的周边表面的板形形状。清洗期间从基板释放的微粒数最小，导致清洗步骤中提高产量。能够手工操作基板，无需操作机构实现了基板质量的改善。
-
公开(公告)号：CN1437045A
公开(公告)日：2003-08-20
申请号：CN03102309.6
申请日：2003-01-30
Applicant: 信越化学工业株式会社
CPC classification number: G03F1/60 , B24B7/00 , B24C1/00 , C03C19/00 , G02F2001/133302 , Y10T428/315
Abstract: 公开一种大尺寸衬底，它具有不小于500mm的对角线长度和不大于6.0×10－6的平面度/对角线长度比率。通过把按照本发明的大尺寸衬底用于曝光，曝光精度被提高，特别是对齐精度和分辨率，因此可能获得大尺寸面板的高精度曝光。通过使用按照本发明的加工方法，有可能稳定获得高平面度的大尺寸光掩模衬底，由于在面板曝光时CD精度(尺寸精度)被提高，有可能执行精细图案的曝光，使面板进入更高的领域。另外，通过应用按照本发明的加工方法，也可能产生任意的表面形状。
-
公开(公告)号：CN302988929S
公开(公告)日：2014-11-05
申请号：CN201430005990.9
申请日：2014-01-09
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 1．本外观设计产品的名称：用于维护存储箱形状的间隔物。2．本外观设计产品的用途：本外观设计产品具体地用于防止存储箱盖子的变形。3．本外观设计产品的设计要点：各视图所显示的产品形状。4．最能表明本外观设计设计要点的图片或照片：立体图。5．A-A剖视图为参考图1中沿A-A线的剖视图。使用状态参考图中，标记1指示本设计，标记2指示盖子。参考图2中，标记2指示盖子，标记3指示玻璃基层，标记4指示存储箱，标记5指示存储箱本体。
-
公开(公告)号：CN302988930S
公开(公告)日：2014-11-05
申请号：CN201430005992.8
申请日：2014-01-09
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 1．本外观设计产品的名称：用于维护存储箱形状的间隔物。2．本外观设计产品的用途：本外观设计产品具体地用于防止存储箱盖子的变形。3．本外观设计产品的设计要点：各视图所显示的产品形状。4．最能表明本外观设计设计要点的图片或照片：立体图。5．剖视图为参考图1中沿A-A线的剖视图。使用状态参考图中，标记1指示本设计，标记2指示盖子。参考图2中，标记2指示盖子，标记3指示玻璃基层，标记4指示存储箱，标记5指示存储箱本体。
-
-
-
-
Search Results
15
records
(took 0.018 seconds)
