含氟有机硅化合物薄膜的光学常数的计量方法

    公开(公告)号:CN114174803A

    公开(公告)日:2022-03-11

    申请号:CN202080054734.1

    申请日:2020-07-30

    Inventor: 内田贵司

    Abstract: 本发明提供一种通过椭圆光度法,可高精度、且高再现性、直接地计量表面粗糙度或雾度值小且具有均质的表面的含氟有机硅化合物薄膜的光学常数(折射率n、衰减系数κ)方法。所述含氟有机硅化合物薄膜的光学常数的计量方法,具有:将含氟有机硅化合物的薄膜形成在基材上的步骤,其中,就所述含氟有机硅化合物的薄膜而言,作为表面粗糙度,算术平均粗糙度为小于1.0nm,且均方根粗糙度为小于2.0nm,雾度值为小于0.3且膜厚为3~10nm;和通过椭圆光度法计量被形成在基材上的薄膜的光学常数的步骤。

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