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公开(公告)号：CN1187247C
公开(公告)日：2005-02-02
申请号：CN01119674.2
申请日：2001-03-28
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B65H23/038 , C23C16/54
CPC classification number: B65H23/105 , B21B37/68 , B21C47/003 , B21C47/34 , B21C47/3425 , B21C47/345 , B65H23/038 , B65H2511/214 , B65H2555/24 , B65H2220/01
Abstract: 本发明提供了一种卷材输送装置和卷材输送方法，用于在输送卷材时保持卷材并向卷材施加张力，该装置包括多个与卷材接触的辊子，以输送卷材，这些辊子中的至少一个包括一机构，该机构将卷材的变形量限制到Y/E或更小。还提供了一种连续的氧化膜电镀装置和电镀方法，用来通过在浸入电镀溶液中的长条基质和阳极之间施加电流而用电化学方式在该长条基质上连续地电镀一层氧化膜，其中，输送该长条基质的同时对其施加张力，一部分基质卷绕在一供电辊上，该供电辊通过供电装置供给或接收所有电镀电流，在输送过程中，该供电辊相对于前辊和后辊的倾斜度保持在一预定的角度内，使该辊轴的倾斜度满足Y/E≥(w tanδ·sinθ)/(L1+L2)。
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公开(公告)号：CN1121508C
公开(公告)日：2003-09-17
申请号：CN98125805.0
申请日：1998-10-15
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: H01L31/022466 , H01L31/056 , H01L31/075 , H01L31/1884 , Y02E10/52 , Y02E10/548
Abstract: 在导电衬底上形成氧化铟膜的成膜方法，把所述衬底和相反电极浸入至少包含硝酸盐离子和铟离子的水溶液中，在所述衬底和相反电极之间通电流，由此在所述衬底上形成所述氧化铟膜。利用无电淀积工艺形成氧化铟膜的水溶液，至少包含硝酸盐离子，铟离子和酒石酸盐。利用所述的水溶液，通过无电淀积工艺，在衬底上形成氧化铟膜的成膜方法。利用所述成膜方法，制成半导体元件和光生伏打元件的衬底。
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公开(公告)号：CN1114957C
公开(公告)日：2003-07-16
申请号：CN96121056.7
申请日：1996-09-27
Applicant: 佳能株式会社
IPC: H01L31/00
CPC classification number: H01L31/1884 , H01L31/03921 , H01L31/056 , H01L31/206 , Y02E10/52 , Y02P70/521 , Y10S136/291
Abstract: 一种制造包含顺序层叠于含铁基片上的金属层、第一透明导电层、半导体层和第二透明导电层的光电器件的方法，包括通过由溶液淀积构成金属层的材料形成金属层和通过由溶液淀积构成第一透明导电层的材料形成第一透明导电层的步骤。
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公开(公告)号：CN1323731A
公开(公告)日：2001-11-28
申请号：CN01119674.2
申请日：2001-03-28
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B65H23/038 , B65H23/18 , B65G49/02 , C23C16/54
CPC classification number: B65H23/105 , B21B37/68 , B21C47/003 , B21C47/34 , B21C47/3425 , B21C47/345 , B65H23/038 , B65H2511/214 , B65H2555/24 , B65H2220/01
Abstract: 本发明提供了一种卷材输送装置,它用来在输送卷材的同时保持卷材并向卷材施加张力,该输送装置具有许多与所输送的卷材接触的辊子,并且至少该许多辊子中的一个辊子具有一个将卷材的变形量限制在Y/E内的机构,本发明还提供了一种卷材输送方法,它采用的是这样一种卷材输送装置,该装置用来在输送卷材的同时保持卷材并向卷材施加张力,该输送装置具有许多与输送的卷材接触的辊子,并且输送在卷材的同时,卷材的变形量被一个机构限制在Y/E内,其中至少该许多辊子中的一个辊子设有该机构。该装置和该方法都能防止卷材弯曲。
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