一种基于离轴全息的干涉散射成像方法及装置

    公开(公告)号:CN116736669A

    公开(公告)日:2023-09-12

    申请号:CN202310553207.0

    申请日:2023-05-17

    Abstract: 一种基于离轴全息的干涉散射成像方法及装置,通过调节光路中分光棱镜或反射镜或二维扫描振镜的位置与方向使得参考光即入射到样品面被盖玻片反射的光与物光即样品出散射的光产生夹角,形成离轴全息并进行全息图像的实时采集;根据采集到的图像对其进行频域滤波,消除载频后从复振幅中提取信息进行重构以获得振幅和相位分布,再对包裹相位进行展开得到连续的相位分布图。本发明通过干涉散射技术与数字全息技术相结合的方式,对采集的单颗粒样品图像进行频谱分离,实现对待测样品信号在同级背景下的实时恢复,同时可以获得丰富的样品相位信息,提升方法的多重信息获取能力。

    基于干涉散射和暗场照明的双模态显微成像装置和方法

    公开(公告)号:CN116661119A

    公开(公告)日:2023-08-29

    申请号:CN202310633568.6

    申请日:2023-05-31

    Abstract: 一种基于干涉散射和暗场照明的双模态显微成像装置和方法,包括显微物镜,镜筒透镜,第一凸透镜,第一滤光片转盘,第二凸透镜,相机,扫描振镜,二分之一波片,第二滤光片转盘,激光器,偏振分光棱镜,照明调整镜,所述的第一滤光片转盘切换基础或放大的干涉散射显微成像、以及暗场照明显微成像这两种不同的模态;所述的第二滤光片转盘切换宽场照明和细光速照明两种不同的照明方式。本发明将干涉散射和暗场照明显微成像装置集于一体,系统利用率高;且不同模态下,可以保证观测到相同的样品区域,同时满足不同的观测需求,干涉散射显微成像装置具有高灵敏度适用于对纳米单分子材料的观测,暗场显微成像适用于对块状材料结构的实时观测。

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