一种镀膜掩膜装置
    11.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111996490B

    公开(公告)日:2021-09-21

    申请号:CN202010861573.9

    申请日:2020-08-24

    Abstract: 本发明公开了一种新型镀膜掩膜装置,属于镀膜掩膜技术领域,能够解决现有镀膜装置结构复杂,制备过程繁琐,导致其成本较高的问题。所述装置包括:支撑件,支撑件用于支撑待镀膜件;掩膜板,掩膜板设置在支撑件上方;掩膜板上设置有开孔,在垂直于掩膜板的方向上,开孔在支撑件上的投影面积覆盖待镀膜件的待镀膜表面的部分区域;驱动结构,用于驱动掩膜板绕掩膜板的中心轴旋转,以使掩膜板每旋转一周,开孔在支撑件上的投影至少覆盖一次待镀膜件的待镀膜表面的全部区域。本发明用于非均匀透射率或非均匀反射率的透镜的镀膜。

    全画幅成像双远心光学系统、全画幅成像装置、光学镜头

    公开(公告)号:CN109541782B

    公开(公告)日:2020-08-28

    申请号:CN201811582182.2

    申请日:2018-12-24

    Abstract: 本申请公开了一种全画幅成像双远心光学系统、全画幅成像装置、光学镜头,该系统包括:沿光线入射方向,从物侧到像侧依次排列的第一双凸正透镜、第二双凸正透镜、第一双凹负透镜、第一弯月正透镜、第二弯月正透镜、弯月负透镜、可变光栏、第二双凹负透镜、第三双凸正透镜和第四双凸正透镜。本申请所提供的全画幅成像双远心光学系统,具有全画幅像面的成像能力,能够对大物面清晰成像,同时具备双远心、低畸变和大景深的成像特点,满足精密机械检测对大尺寸物体的检测要求。本申请的另一方面还提供了包含该光学系统的全画幅成像装置和光学镜头。

    阵列基板单元及其制备方法、阵列基板、显示控制系统

    公开(公告)号:CN111158172A

    公开(公告)日:2020-05-15

    申请号:CN202010043548.X

    申请日:2020-01-15

    Abstract: 本申请公开了一种阵列基板单元及其制备方法、阵列基板、显示控制系统,所述阵列基板单元包括:衬底;波导层,设置于所述衬底上;电极层对,设置于所述衬底上,且所述波导层位于所述电极层对之间;控制电路,与所述电极层对连接,用于控制电极层对之间的电压值,以改变所述电极层对之间波导层中的光路。本申请的阵列基板单元可通过控制电路改变电极层对之间的电压值,调节该电极层对之间波导层中的光路,使阵列基板单元在不同电压值下,具有不同的显示结果。

    一种超晶格极化晶体器件及其制备方法

    公开(公告)号:CN109917600A

    公开(公告)日:2019-06-21

    申请号:CN201910183493.X

    申请日:2019-03-12

    Abstract: 本申请公开了一种超晶格极化晶体器件及其制备方法。该方法包括:使基质材料与衬底材料键合,形成键合晶体;对所述键合晶体的所述基质材料层进行减薄,并在其上制作周期性或准周期性的掩膜层;对所述掩膜层进行蚀刻,以形成浮雕型光栅结构;对整个器件加压,将所述浮雕型光栅结构压制进所述掩膜层中;对所述器件的端面进行抛光镀膜,获得所述超晶格极化晶体器件,所述器件用于深紫外激光的输出。该器件成本低廉、材料易得,且可以灵活设计光学超晶格的极化周期,通过倍频、和频、差频等多种光学频率转换方法,满足可调谐、宽带等不同应用需求,获得高转换效率的深紫外激光输出。

    一种全画幅单反镜头
    18.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113703131A

    公开(公告)日:2021-11-26

    申请号:CN202110813642.3

    申请日:2021-07-19

    Abstract: 本发明公开了一种全画幅单反镜头,属于相机镜头技术领域,能够解决现有镜头光圈小、使用非球面玻璃透镜价格高的问题。全画幅单反镜头包括从物体侧至像面侧依次设置的第一透镜组、第二透镜组、可变光阑、第三透镜组及弯月负透镜,弯月负透镜的凹面朝向第三透镜组;第一透镜组焦距为负,第二透镜组焦距为正,第三透镜组焦距为正;第一透镜组包括弯月非球面透镜及弯月负透镜,弯月负透镜位于弯月非球面透镜与第二透镜组之间,弯月非球面透镜的凹面朝向弯月负透镜的凹面。本发明用于单反镜头。

    一种激光显微物镜
    19.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111025617B

    公开(公告)日:2021-02-19

    申请号:CN201911348961.0

    申请日:2019-12-24

    Abstract: 本发明公开了一种激光显微物镜,属于光学镜头技术领域,能够解决现有的激光显微物镜焦距较大造成的不能满足客户对更大面积全息产品需求的问题。所述激光显微物镜包括沿激光入射方向,依次设有的第一正透镜组、第二负透镜组和第三正透镜组,第三正透镜组的焦距f3满足条件2.5mm≤f3≤4.0mm。本发明通过设置三个透镜组,且第三透镜组的焦距在2.5mm‑4.0mm范围内,使激光显微物镜的焦距减小,能够满足客户对更大面积全息产品的需求。

    软边光阑及其制备方法和制备时使用的镀膜挡板

    公开(公告)号:CN112269268A

    公开(公告)日:2021-01-26

    申请号:CN202011084773.4

    申请日:2020-10-12

    Abstract: 本发明公开了软边光阑及其制备方法和制备时使用的镀膜挡板,其中软边光阑包括基片和设置在基片上的膜层;膜层的厚度随基片的半径的增大而逐渐增大或逐渐减小,利用膜层的厚度限定激光透过率。对应的制备方法包括:获取膜层的厚度与基片的半径之间的第一函数关系;根据第一函数关系,在基片的每一半径位置处,镀设对应厚度的膜层。本发明还公开了制备上述软边光阑使用的镀膜挡板。本发明的软边光阑能够避免激光经过光阑产生的“强心效应”,可以广泛用于激光强度调制、激光整形以及激光光强均匀化等方向的装置内。本发明只要在现有镀膜机中安装一个镀膜挡板,即可实现制备本申请的软边光阑,因此,适用性更强,成本也较低。

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