一种紫外辐照接枝制备荷负电膜的方法

    公开(公告)号:CN102512994A

    公开(公告)日:2012-06-27

    申请号:CN201110398867.3

    申请日:2011-12-05

    Abstract: 本发明公开了一种紫外辐照接枝制备荷负电膜的方法,该方法选用主链或侧链带有羰基或磺酰基的高分子聚合物膜为基膜,结构式XCnF2nOCmF2mSO3-G+的含氟阴离子(其中,X为卤素离子,G为氢离子或金属离子,n、m是1到40的整数,包括1和40)为功能性荷电剂,利用紫外光辐照接枝的方法,将该功能性荷电剂接枝到基膜表面,得到荷负电膜,以改善基膜的性能。与现有技术相比,本发明提供的荷负电膜的制备方法不使用光引发剂,因而不存在引发剂残基引起的环境污染问题;同时,该制备方法具有工艺简单、操作方便、加工速度快、处理效果好的优点,因此是一种低成本、高效率、绿色环保的方法,具有广泛的工业化应用前景。

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