单片集成多波长量子级联激光器阵列结构及其制作方法

    公开(公告)号:CN112072471A

    公开(公告)日:2020-12-11

    申请号:CN202010976458.6

    申请日:2020-09-16

    Abstract: 一种单片集成多波长量子级联激光器阵列结构及其制作方法,其中,激光器阵列结构包括形成于衬底上,脊型的阵列直条区、分布布拉格反射区和光束组合区;阵列直条区,形成呈阵列结构的多个解离腔;分布布拉格反射区,与阵列直条区结合形成呈阵列结构的多个完整谐振腔;光束组合区,用于将呈阵列结构的多个完整谐振腔耦合集成,实现光束多波长连续同轴输出;阵列直条区、分布布拉格反射区和光束组合区由下至上依次包括:下波导层、下限制层、有源层、上限制层、上波导层和欧姆接触层;在上限制层对应分布布拉格反射区刻蚀形成二级光栅。本发明一方面实现集成阵列单元单纵模输出;另一方面实现无损耦合,实现室温多波长连续同轴输出。

    环形腔面发射差频太赫兹量子级联激光器的制备方法

    公开(公告)号:CN107069432B

    公开(公告)日:2019-02-15

    申请号:CN201710472687.2

    申请日:2017-06-20

    Abstract: 一种环形腔面发射差频太赫兹量子级联激光器的制备方法,包括如下步骤:步骤1:在一衬底上依序生长下波导层、下光学限制层、第一有源层、间隔层、第二有源层、上光学限制层和上波导层;步骤2:移除上波导层,在上光学限制层上呈放射状向下刻蚀多条光栅,形成一个双周期的环形光栅;步骤3:在刻蚀后的上光学限制层上重新生长上波导层;步骤4:在上波导层上向下刻蚀一环形脊结构,刻蚀深度到达下光学限制层;步骤5:在刻蚀后的环形脊结构的沟槽中填满半绝缘InP:Fe;步骤6:在沟槽中填满半绝缘InP:Fe的环形脊结构上蒸发正面金属电极,镀金;步骤7:将衬底减薄,抛光,在衬底的背面蒸发背面金属电极;步骤8:刻蚀金属电极,制备出二级环形表面金属光栅,完成制备。

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