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公开(公告)号：CN105234131A
公开(公告)日：2016-01-13
申请号：CN201510729977.1
申请日：2015-11-02
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明提供了一种用于去除光机元件表面微量有机污染物的烘烤装置。该烘烤装置利用低真空烘烤方式，通过红外烘烤灯烘烤出金属或熔石英光机元件表面或亚表面的有机污染物，并将有机污染物利用微量循环空气带出真空箱。该烘烤装置使用空气过滤器和AMC过滤器，避免了空气中的颗粒及有机物对光机元件表面的二次污染；该烘烤装置通过调节真空压力及烘烤温度，可以在确保在光机元件性能不变的情况下去除光机元件表面或者亚表面有机污染物，同时达到较高的洁净度等级。本发明的烘烤装置具有有机污染物去除效果好、结构简单、不引入二次污染、易于使用的优点，可拓展适用于航空、航天等对洁净度要求比较高的领域。
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公开(公告)号：CN101781086A
公开(公告)日：2010-07-21
申请号：CN201010028095.X
申请日：2010-01-15
Applicant: 电子科技大学 , 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: C03B29/00
Abstract: 一种熔石英光学损伤元件的修复方法，属于光学材料与光学元件技术领域，具体涉及一种熔石英光学元件激光损伤的修复处理方法。先采用红外二氧化碳激光对熔石英光学损伤元件的损伤部分进行激光熔融修复；再将激光熔融修复后的熔石英光学损伤元件进行退火处理。本发明可对熔石英光学损伤元件进行完全修复，并消除激光熔融修复过程带来的残余应力。经本发明修复后的熔石英光学元件可回复到理想熔石英光学元件状态；同时，本发明还可抑制熔石英光学元件损伤点的增长。本发明可延长熔石英光学元件的使用寿命，大大降低运行成本，具有工艺可控性强、重复性高且性能稳定的特点。
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公开(公告)号：CN110813924B
公开(公告)日：2024-08-23
申请号：CN201911291678.9
申请日：2019-12-16
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种用于光学元件表面颗粒污染物的处理系统，包括：底板，其上通过支撑柱放置有光学元件；风刀及离子棒单元，其通过支撑单元连接在底板上，且风刀及离子棒单元位于光学元件的一端，并使风刀及离子棒单元的出风口正对光学元件的上表面；静电吸附电极，其包括平行设置的正电极棒和负电极棒，正电极棒和负电极棒分别通过电极支撑架连接在底板上，且正电极棒位于光学元件的上方，负电极棒位于光学元件的的下方。本发明通过风刀及离子棒产生离子风或高速气流将光学元件表面的污染物去除并使污染物荷电，采用静电吸附电极在光学元件末端或将静电吸附电极带动在光学元件表面进行来回运动，对污染物进行收集，从而达到污染物去除的目的。
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公开(公告)号：CN111175683B
公开(公告)日：2024-08-16
申请号：CN202010181860.5
申请日：2020-03-16
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G01R35/00
Abstract: 本发明公开了一种交直流复合磁场‑力‑热环境下实验测试系统，包括：工作台；一对平行的直流亥姆霍兹线圈，其通过移动单元设置在工作台上；两对平行的交流亥姆霍兹线圈，其通过支撑杆设置在工作台上，且两对平行的交流亥姆霍兹线圈连接在支撑杆的顶部并合围形成容纳腔体；且容纳腔体位于一对平行的直流亥姆霍兹线圈之间的中心处；温控炉，其设置在支撑杆的顶部，且温控炉位于容纳腔体内；测力单元，其设置在工作台上并位于一对平行的直流亥姆霍兹线圈的一端，且测力单元的施力方向与一对平行的直流亥姆霍兹线圈的轴线平行；夹具单元，其设置在工作台上并位于一对平行的直流亥姆霍兹线圈的另一端，且夹具单元与测力单元相对应设置。
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公开(公告)号：CN106645197B
公开(公告)日：2024-01-30
申请号：CN201611233039.3
申请日：2016-12-29
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G01N21/94
Abstract: 本发明公开了一种检测精密光学元件表面颗粒物的在线检测系统，包括：箱体，其顶部设置有可供激光进入的入光口；设置在箱体内部的光学元件；其中，所述光学元件的镜框边缘上方相对设置有2个线光源；所述箱体一侧设置有光学显微成像装置；所述成像装置通过与其通信连接的上位机进而实现对光学元件表面颗粒物的在线检测。本发明提供一种检测精密光学元件表面颗粒物的在线检测系统，其能够通过光学元件与线光源，上位机与光学显微成像装置的配合，实现对光机装置中光学元件表面颗粒污染物的在线监测，并高效、高精度地实时提供光学元件表(56)对比文件王世通.精密表面缺陷检测散射成像理论建模及系统分析研究.万方学位论文.2015,1-123.苗心向，等.激光装置污染物诱导光学元件表面损伤实验研究.中国激光.2015,第42卷(第06期),9-15.王科.光学元件表面疵病散射法检测技术研究.中国优秀硕士学位论文电子期刊工程科技Ⅱ辑.2016,(第04期),1-77.王玉增.颗粒显微图象二值化方法研究.济南大学学报.2003,(第2期),155-156.Darji R，等.Scattering corrections insmall particle imaging. Micron.1997,第28卷(第2期),95-100.程晓锋;徐旭;张林;贺群;袁晓东;蒋晓东;郑万国.基于高分辨力CCD的大口径光学元件疵病检测.强激光与粒子束.2009,(第11期),1677-1680.杨甬英;陆春华;梁蛟;刘东;杨李茗;李瑞洁.光学元件表面缺陷的显微散射暗场成像及数字化评价系统.光学学报.2007,(第06期),1031-1038.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114573931B
公开(公告)日：2023-05-09
申请号：CN202210212658.3
申请日：2022-03-04
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种用于光学元件表面损伤坑修复的胶体的制备方法及应用，包括：将聚乙烯醇和高纯水混合搅拌，得到胶体A；将胶体A置于25℃恒温下，静置24‑36h，得到胶体B；将胶体B进行加热搅拌，得到胶体C；在胶体C中缓慢滴加刻蚀剂，并搅拌至充分溶解，得到用于光学元件表面损伤坑修复的胶体。该胶体可用于光学元件表面损伤坑的修复，修复效率高，且可修复800μm以上的损伤坑，从而提升光学元件的抗激光损伤阈值。此修复方法是利用HF的刻蚀性，对损伤坑内部进行轻度刻蚀，使其内部平滑，可减缓激光通过光学元件时由于损伤坑所引起的光场调制，一方面可以避免损伤坑尺寸的进一步扩大，另一方面也能避免引起下游光学元件的损伤。
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公开(公告)号：CN115625416A
公开(公告)日：2023-01-20
申请号：CN202211424095.0
申请日：2022-11-15
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: B23K26/122 , B23K26/14 , B23K26/352 , B23K26/60 , B23K26/70
Abstract: 本发明公开了钝化液辅助飞秒激光加工金属表面三维精细结构的方法，包括：金属样品预处理；搭建飞秒激光加工系统；将预处理的金属样品固定在盛有钝化液的容器底部，在空间光调制器上加载预先设计好的全息图；在CCD相机视野范围下找到金属样品表面，通过控制容器内钝化液的量控制飞秒激光射入液体的深度，通过衰减片控制飞秒激光与金属样品接触面的功率密度；飞秒激光与钝化液发生耦合作用后到达金属样品表面；对金属样品进行直写加工；加工完成后将金属样品取下，依次用乙醇、去离子水超声清洗，晾干。钝化液可限制加工区域金属表面等离子体激元的生成，降低入射激光与等离子体激元的干涉作用，降低二维周期性亚波长结构的生成。
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公开(公告)号：CN111239890A
公开(公告)日：2020-06-05
申请号：CN202010189618.2
申请日：2020-03-18
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G02B6/02
Abstract: 本发明公开了一种微纳光纤长周期光栅的制备装置及制备方法，包括：用于发射激光光束的激光器；扫描振镜，其位于激光器发出的激光光束的下游，所述激光光束能够照射在扫描振镜上；电控平移台，其上设置有用于固定微纳光纤的光纤夹具，所述电控平移台位于扫描振镜的后端，且经过扫描振镜的激光束能够照射在光纤夹具上；CCD，其位于电控平移台的后端；控制电脑，其分别与激光器、扫描振镜、电控平移台和CCD相连，所述控制电脑能够对激光器、扫描振镜、电控平移台和CCD进行控制。本发明微纳光纤长周期光栅的制备方法，具有制备简单、制备时间短、调制深度高的优点，特别适合长周期光栅器件的批量生产。
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公开(公告)号：CN111175683A
公开(公告)日：2020-05-19
申请号：CN202010181860.5
申请日：2020-03-16
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G01R35/00
Abstract: 本发明公开了一种交直流复合磁场-力-热环境下实验测试系统，包括：工作台；一对平行的直流亥姆霍兹线圈，其通过移动单元设置在工作台上；两对平行的交流亥姆霍兹线圈，其通过支撑杆设置在工作台上，且两对平行的交流亥姆霍兹线圈连接在支撑杆的顶部并合围形成容纳腔体；且容纳腔体位于一对平行的直流亥姆霍兹线圈之间的中心处；温控炉，其设置在支撑杆的顶部，且温控炉位于容纳腔体内；测力单元，其设置在工作台上并位于一对平行的直流亥姆霍兹线圈的一端，且测力单元的施力方向与一对平行的直流亥姆霍兹线圈的轴线平行；夹具单元，其设置在工作台上并位于一对平行的直流亥姆霍兹线圈的另一端，且夹具单元与测力单元相对应设置。
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公开(公告)号：CN105022166B
公开(公告)日：2017-12-05
申请号：CN201510526032.X
申请日：2015-08-25
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 , 哈尔滨工业大学
IPC: G02B27/00
Abstract: 本发明公开了一种大口径光学元件动态洁净保持和转运装置，包括呈长方体结构的洁净转运箱，其前端敞口，后端设有进风口；可拆卸地设置在所述洁净转运箱的前端敞口位置，并能够遮盖住该敞口的前挡板；可拆卸地安装在所述进风口位置，并能够遮盖住该进风口的后挡板；对称地设置在洁净转运箱顶壁和底面上的滑道，该滑道具有至少一条滑槽，所述滑槽中部的宽度大于其两端的宽度。本发明能够满足大口径光学元件在线安装维护和运行过程中的洁净要求，大口径光学元件在进入滑道后，能够实现一定的柔性调整，转运方便可靠，具有结构简单，操作方便等优点。
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