一种适用于GaN材料外延产业化的托舟

    公开(公告)号:CN102797034B

    公开(公告)日:2015-05-20

    申请号:CN201210309119.8

    申请日:2012-08-27

    Abstract: 本发明公开一种适用于GaN材料外延产业化的托舟,解决氮化镓半导体材料外延过程中副产物生成过快,导致系统维护频率高的难题。本发明包含有托舟,托舟四周设计有高低不同凸起的侧壁,反应物被喷洒在侧壁内侧,托舟底部设有数层可拆开的分层结构,托舟底部的衬底层上设有复数用于放置衬底的衬底槽,在托舟各层设置位于流道隔壁中的流道,托舟设计有数个尾气出口,尾气出口连接对应的尾气管道。本发明实现了控制副产物生成位置,使副产物生长在托舟内部,以清理托舟方式来降低系统清理频率,有利于实现生长氮化镓材料的产业化。

    一种适用于GaN材料外延产业化的托舟

    公开(公告)号:CN102797034A

    公开(公告)日:2012-11-28

    申请号:CN201210309119.8

    申请日:2012-08-27

    Abstract: 本发明公开一种适用于GaN材料外延产业化的托舟,解决氮化镓半导体材料外延过程中副产物生成过快,导致系统维护频率高的难题。本发明包含有托舟,托舟四周设计有高低不同凸起的侧壁,反应物被喷洒在侧壁内侧,托舟底部设有数层可拆开的分层结构,托舟底部的衬底层上设有复数用于放置衬底的衬底槽,在托舟各层设置位于流道隔壁中的流道,托舟设计有数个尾气出口,尾气出口连接对应的尾气管道。本发明实现了控制副产物生成位置,使副产物生长在托舟内部,以清理托舟方式来降低系统清理频率,有利于实现生长氮化镓材料的产业化。

    一种材料气相外延用扇形喷头结构

    公开(公告)号:CN103103501B

    公开(公告)日:2016-05-11

    申请号:CN201310012409.0

    申请日:2013-01-14

    Abstract: 本发明公开了一种材料气相外延用扇形喷头结构,使第一前驱物、第二前驱物、各种保护性气体在大面积反应区域内充分混合后形成较为均匀的流场。本发明包含有一个以上进气管道,进气管道上设有检测并控制进气流速和流量的控制器,喷头腔体内设有一个以上扇形的独立隔离区域,隔离区域顶端密封板连接一个进气管道,隔离区域底端的出气挡板上设有一个及以上的气体喷口,喷头下面设有圆形反应腔。本发明实现Ⅲ族-氮化物半导体材料的大批量生产,提高Ⅲ族-氮化物半导体材料的生产效率。

    半导体及微电子行业耐高温防滑夹具

    公开(公告)号:CN103094172B

    公开(公告)日:2016-02-10

    申请号:CN201210559378.6

    申请日:2012-12-21

    Abstract: 本发明公开了半导体及微电子行业耐高温防滑夹具,通过夹头与夹臂的安装组合方式,使用时施力于夹臂,用卡槽卡住所夹持晶片,有效防止夹持过程中晶片的掉落。本发明包含有第一夹臂、第二夹臂,第一夹臂另一端安装第一夹头,第二夹臂另一端安装第二夹头,第一夹头与第二夹头之间形成卡槽夹持部,通过作用第一夹臂、第二夹臂控制第一夹头、第二夹头的运动作用于样品。本发明根据使用温度的不用,夹臂和夹头可选择适当的耐高温材料制成,达到高温条件下取放晶片的目的。

    用于改良外延过程中衬底晶片表面温场的方法

    公开(公告)号:CN102828238B

    公开(公告)日:2015-11-04

    申请号:CN201210303314.X

    申请日:2012-08-24

    Abstract: 本发明一种用于改良外延过程中衬底晶片表面温场的方法,首先选取复合衬底晶片,在初始温度和外延起始温度不同时,计算出复合衬底晶片中第一种材料的体积变化和第二种材料的体积变化,然后根据第一种材料的体积变化和第二种材料的体积变化计算出复合衬底晶片变形后的球面半径;再根据计算得出的R0值在载体上开设衬底球径结构;然后把复合衬底晶片置放到衬底球径结构中,在HVPE中进行半导体材料生长。本发明改善了半导体材料外延过程起始阶段衬底晶片表面温场的均匀性,提高外延起始层与原有材料的衔接质量,降低了工艺调试难度,提高了外延半导体材料的质量。

    一种操作简易的晶片夹具
    16.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103094174B

    公开(公告)日:2015-10-07

    申请号:CN201210559395.X

    申请日:2012-12-21

    Abstract: 本发明公开了一种操作简易的晶片夹具,可以提高工作效率、节省人力成本、提高夹持工序的安全性。本发明包含有2个及以上的夹臂和夹头,夹臂之间相互连接形成连接端,夹臂另一端的自由端安装衔接有夹头,其中一个夹臂上安装一个以上夹头,夹臂中一些夹臂在夹取操作中其位置相对固定不变,为固定夹臂,另外的夹臂则相对于固定夹臂其位置在变动,为运动夹臂;运动夹臂带动夹头向固定夹臂移动,固定夹臂在夹具的夹取中起到定位作用。本发明操作简单容易,提高设备定位精度,简化设备控制系统的复杂程度,进而降低成本。

    一种材料气相外延用方形喷头结构

    公开(公告)号:CN103060906B

    公开(公告)日:2015-09-16

    申请号:CN201310012395.2

    申请日:2013-01-14

    Abstract: 本发明公开了一种材料气相外延用方形喷头结构,解决在较大的衬底和较大的沉积区域之上提供均匀的前驱物混合问题。本发明方形喷头内设有多个相互独立的隔离区域,隔离区域呈上下结构依层排布,方形喷头顶部设有与隔离区域连通的输入管道,隔离区域底部设有多个气体喷管,气体喷管的喷口设于方形喷头底部。本发明通过方形的喷头结构,独立的隔离区域,以及多个喷头联合使用的方式,可使前驱物以及各种气体混合后均匀沉积在衬底表面,并提高生产效率。

    一种多夹头晶片夹具
    18.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103094173A

    公开(公告)日:2013-05-08

    申请号:CN201210559394.5

    申请日:2012-12-21

    Abstract: 本发明公开了一种多夹头晶片夹具,通过施力于夹臂控制夹头,减小各夹头之间距使其合拢并接触晶片的侧边缘,来完成夹片操作。本发明包含有四个及以上夹头,夹头安装在夹臂末端,在其一个及以上夹臂末端上可安装多个夹头,形成多夹头夹具,部分夹臂相对固定,其余夹臂可定向移动带动夹头靠拢、接触晶片侧边缘实施夹取操作,夹臂之间形成有夹角。本发明的多夹头夹具,仅需其中三个夹头作用在晶片上,便能达到夹具的作用,从而降低对夹头的控制精确度的要求及夹持晶片的操控难度,提高安全性。

    半导体及微电子行业耐高温防滑夹具

    公开(公告)号:CN103094172A

    公开(公告)日:2013-05-08

    申请号:CN201210559378.6

    申请日:2012-12-21

    Abstract: 本发明公开了半导体及微电子行业耐高温防滑夹具,通过夹头与夹臂的安装组合方式,使用时施力于夹臂,用卡槽卡住所夹持晶片,有效防止夹持过程中晶片的掉落。本发明包含有第一夹臂、第二夹臂,第一夹臂另一端安装第一夹头,第二夹臂另一端安装第二夹头,第一夹头与第二夹头之间形成卡槽夹持部,通过作用第一夹臂、第二夹臂控制第一夹头、第二夹头的运动作用于样品。本发明根据使用温度的不用,夹臂和夹头可选择适当的耐高温材料制成,达到高温条件下取放晶片的目的。

    一种高温环境下使用的液位控制装置

    公开(公告)号:CN103034252A

    公开(公告)日:2013-04-10

    申请号:CN201210559376.7

    申请日:2012-12-21

    Abstract: 本发明公开了一种高温环境下使用的液位控制装置,其耐高温,结构简单,成本低廉。本发明包含有液源容纳区,液源容纳区通过进液通道连通液槽,液源容纳区的液面高于液槽的液面,进液通道内设有密封模块,密封模块与进液通道可密闭配合,密封模块连接控制模块,控制模块位于液槽内,控制模块将液位信息转化为信号传递到密封模块,控制模块传递给密封模块的的信号是力信号、位置信号、形变信号,控制模块上设有一个及以上可增减或更换的重块。本发明通过选材、原理结构和密封面处理,实现了对高温液体的液位控制。

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