公开(公告)号：CN102656492B

公开(公告)日：2015-03-04

申请号：CN201080055911.4

申请日：2010-01-21

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 中井豊 ,  小野富男 ,  本宫佳典 ,  额田秀记 ,  平山雄三 ,  永户一志 ,  宫崎崇

IPC: G02B5/28 ,  G02B5/20 ,  G02F1/1335

CPC classification number: G02B5/28 ,  G02B5/201 ,  G02F1/133514 ,  G02F2001/133519 ,  G02F2001/133521

Abstract: 本发明的目的在于获得能用较少的工序数来形成、且光利用效率较高的带干涉型滤光片层的基板、以及使用该基板的显示装置。该带干涉型滤光片层的基板包括：平板状的基板；以及滤光片层，该滤光片层包括第一反射层、透射层、以及第二反射层，其中，所述第一反射层设置于基板上，并具有光半透射性，所述透射层由设置于所述第一反射层上的具有光透射性的第一间隔层、及设置于第一反射层上的一部分上的具有光透射性的第二间隔层和第三间隔层所形成，并具有第一区域、第二区域、及第三区域，所述第一区域、第二区域、及第三区域共同具有第一间隔层，且它们的光学膜厚因第二间隔层和第三间隔层而各不相同，所述第二反射层设置于所述透射层上，并具有光半透射性，并且，所述滤光片层使得在第一区域至第三区域中透过不同波长的光。

公开(公告)号：CN102713742A

公开(公告)日：2012-10-03

申请号：CN201080042766.6

申请日：2010-01-07

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 永户一志 ,  宫崎崇 ,  中井丰 ,  小野富男 ,  本宫佳典 ,  额田秀记 ,  平山雄三 ,  山口一

IPC: G02F1/13357

CPC classification number: G02F1/133526 ,  G02F1/133605 ,  G02F1/133621 ,  G02F2001/133521

Abstract: 披露了一种显示设备，该显示设备设有：光切换面板，其具有第一和第二像素以及用于控制第一和第二像素的透射率的驱动单元；以及光源设备，其设置在光切换面板的背表面侧。光源设备具有发射光源光的光源、导光单元、第一和第二干涉滤光器以及第一和第二光通量控制单元。导光单元具有：引导光源光的导光区；反射单元，其设置在导光区的周围并将光源光朝导光区反射；以及第一和第二开口，它们设置在导光区的周围并朝导光区外输出光，所述光在光源光的基础上被半准直化。在从第一和第二开口输出的光之中，第一和第二干涉滤光器使第一和第二波长范围内的波长的光透过，并反射其它的光。第一和第二光通量控制单元使已通过第一和第二干涉滤光器的光成像，并将像输入至第一和第二像素。由此抑制混色并获得低功耗。

公开(公告)号：CN102656492A

公开(公告)日：2012-09-05

申请号：CN201080055911.4

申请日：2010-01-21

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 中井豊 ,  小野富男 ,  本宫佳典 ,  额田秀记 ,  平山雄三 ,  永户一志 ,  宫崎崇

IPC: G02B5/28 ,  G02B5/20 ,  G02F1/1335

CPC classification number: G02B5/28 ,  G02B5/201 ,  G02F1/133514 ,  G02F2001/133519 ,  G02F2001/133521

Abstract: 本发明的目的在于获得能用较少的工序数来形成、且光利用效率较高的带干涉型滤光片层的基板、以及使用该基板的显示装置。该带干涉型滤光片层的基板包括：平板状的基板；以及滤光片层，该滤光片层包括第一反射层、透射层、以及第二反射层，其中，所述第一反射层设置于基板上，并具有光半透射性，所述透射层由设置于所述第一反射层上的具有光透射性的第一间隔层、及设置于第一反射层上的一部分上的具有光透射性的第二间隔层和第三间隔层所形成，并具有第一区域、第二区域、及第三区域，所述第一区域、第二区域、及第三区域共同具有第一间隔层，且它们的光学膜厚因第二间隔层和第三间隔层而各不相同，所述第二反射层设置于所述透射层上，并具有光半透射性，并且，所述滤光片层使得在第一区域至第三区域中透过不同波长的光。

公开(公告)号：CN1117436A

公开(公告)日：1996-02-28

申请号：CN95109994.9

申请日：1995-07-11

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 平原修三 ,  斋藤勉 ,  永户一志 ,  板仓哲朗 ,  高山晓 ,  额田秀记 ,  服部俊介 ,  工藤纪子 ,  齐藤史郎 ,  杉内政英 ,  东海阳一 ,  村上文彦 ,  田中久子 ,  田沼千秋 ,  泉守 ,  雨宫功 ,  中村敦子 ,  清水征三郎 ,  奥和田久美

IPC: B41J2/01

CPC classification number: B41J2/14008 ,  B41J2002/14322

Abstract: 一种喷墨记录装置，它通过借助超声波束的压力使墨滴从墨的表面飞出而将图象记录在记录介质上，包括：超声波发生元件阵列(10)，它具有设置成阵列的至少一个超声波元件，用于发射超声波束；驱动装置(21)，用于施加具有彼此不同的相位的多个脉冲，以通过使从所述超声波发生元件阵列(10)的一部分的所述超声波发生元件发射的所述多个超声波束彼此发生干涉而会聚超声波束；以及，会聚装置(16)，用于会聚所述多个超声波束中的每一个。

公开(公告)号：CN1254717C

公开(公告)日：2006-05-03

申请号：CN02143536.7

申请日：2002-09-27

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 饭田敦子 ,  齐藤三长 ,  额田秀记

IPC: G03G15/00 ,  G03G15/10 ,  G03G21/10

CPC classification number: G03G15/10 ,  G03G15/161 ,  G03G15/1665 ,  G03G15/1695 ,  G03G15/6558 ,  G03G2215/00708 ,  G03G2215/017

Abstract: 本发明公开了一种成像设备和成像方法，成像设备包括在其表面上形成静电潜像的成像材料；为静电潜像提供液体显影剂以在成像材料上形成显影图像的显影装置；中间转印介质具有一个初次转印位置和一个再次转印位置，在初次转印位置通过与成像材料接触将成像材料上的显影图像转印在所述中间转印介质，在再次转印位置通过与纸接触将显影图像再次转印到纸上；中间转印清洁装置，当中间转印介质已经通过再次转印位置但还没有达到初次转印位置时，通过与中间转印介质接触能够粘附并且去除附着在中间转印介质表面上的物质；位于将纸输送到再次转印位置的输送装置的输送路径上的纸清洁装置，通过与纸和中间转印介质的表面接触能粘附和去除附着在该表面上的物质，可防止附着在纸上的粉尘粘附在中间转印介质上。