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公开(公告)号：CN1701421A
公开(公告)日：2005-11-23
申请号：CN200480001036.6
申请日：2004-04-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/3065
Abstract: 在具有等离子体发生部和在内部收容被处理基板的腔室的等离子体处理装置中，设置在等离子体发生部和腔室之间，将处理气体导入由等离子体发生部和腔室构成的处理空间中的处理气体导入机构具有：支撑等离子发生部并且固定在腔室上，形成将处理气体导入处理空间的气体导入通路，在其中央具有成为所述处理空间的一部分的空穴部的气体导入基座、和可以取出地安装在气体导入基座的空穴部中，具有从气体导入通路连通到处理空间而将处理气体喷出到处理空间的多个气体喷出孔的形成大致环状的气体导入板。
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