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公开(公告)号:CN114173868B
公开(公告)日:2024-02-23
申请号:CN201980098866.1
申请日:2019-07-26
Applicant: 上海联影医疗科技股份有限公司
IPC: A61N5/10
Abstract: 本说明书涉及一种放射治疗系统(100)。该放射治疗系统(100)可以包括具有至少一层叶片的MLC和至少一个块(630‑1、630‑2)。该至少一层叶片中的每一层可以包括第一组叶片(410‑1)和第二组叶片(410‑2)。该叶片的至少一部分是可移动的以阻挡辐射区域(440)内辐射束的第一部分的路径。该辐射束第二部分入射在辐射治疗系统(100)的治疗区域(420)。该MLC可以位于第一平面。该至少一个块(630‑1、630‑2)可以位于与第一平面不同的第二平面。至少一个块可以被配置为遮挡端部区域(430‑1、430‑2、430‑3、430‑4)内的至少一部分漏射辐射束。
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公开(公告)号:CN114917490A
公开(公告)日:2022-08-19
申请号:CN202210325032.3
申请日:2022-03-30
Applicant: 上海联影医疗科技股份有限公司
IPC: A61N5/10
Abstract: 本说明书实施例提供一种医疗系统,所述医疗系统包括第一医疗设备和第二医疗设备;所述第一医疗设备和所述第二医疗设备均设置有允许目标对象进入的通道,所述第一医疗设备的通道孔径不同于所述第二医疗设备的通道孔径;所述第一医疗设备和所述第二医疗设备能够相对运动。本说明书实施例还提供一种医疗系统的控制方法。
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公开(公告)号:CN114173868A
公开(公告)日:2022-03-11
申请号:CN201980098866.1
申请日:2019-07-26
Applicant: 上海联影医疗科技股份有限公司
IPC: A61N5/10
Abstract: 本说明书涉及一种放射治疗系统(100)。该放射治疗系统(100)可以包括具有至少一层叶片的MLC和至少一个块(630‑1、630‑2)。该至少一层叶片中的每一层可以包括第一组叶片(410‑1)和第二组叶片(410‑2)。该叶片的至少一部分是可移动的以阻挡辐射区域(440)内辐射束的第一部分的路径。该辐射束第二部分入射在辐射治疗系统(100)的治疗区域(420)。该MLC可以位于第一平面。该至少一个块(630‑1、630‑2)可以位于与第一平面不同的第二平面。至少一个块可以被配置为遮挡端部区域(430‑1、430‑2、430‑3、430‑4)内的至少一部分漏射辐射束。
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公开(公告)号:CN113616937A
公开(公告)日:2021-11-09
申请号:CN202110882692.7
申请日:2021-08-02
Applicant: 上海联影医疗科技股份有限公司
Abstract: 本发明涉及一种放疗靶结构及放射治疗设备。该放疗靶结构包括:靶组件,包括支撑件和安装于所述支撑件的第一靶本体;以及防护外壳,包裹于所述靶组件的外侧;所述防护外壳包括第一面和第二面,所述第一面和第二面位于所述第一靶本体的相对两侧,所述第一面的至少一部分以及所述第二面的至少一部分均能够供射束穿过,所述防护外壳的内部形成密封容腔,所述密封容腔用于防止所述第一靶本体被氧化。当电子产生装置发射的电子束打在第一靶本体产生热量时,能够减少第一靶本体产生的氧化物质,能够避免氧化物质溅射,不会对加速管产生影响,保证使用性能,延长第一靶本体和加速管的使用寿命,无需更换加速管的输出窗,降低成本。
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公开(公告)号:CN113616936A
公开(公告)日:2021-11-09
申请号:CN202110882687.6
申请日:2021-08-02
Applicant: 上海联影医疗科技股份有限公司
Abstract: 本发明涉及一种放疗靶结构及放射治疗设备。该放疗靶结构包括:靶组件;所述靶组件包括支撑件以及第一靶本体,所述第一靶本体设置于所述支撑件中,所述支撑件至少部分能够供射束穿过以射入所述第一靶本体;所述支撑件还具有第一通道,所述第一通道的一端与所述第一靶本体所在位置连通,所述第一通道的另一端贯通所述支撑件。氧化物质能够沿第一通道流动,并且,因第一通道远离第一靶本体的端部远离电加速管的输出窗,第一靶本体产生的氧化物质不会沉积在输出窗上,不会对加速管产生影响,保证使用性能,延长第一靶本体的加速管的使用寿命,无需更换加速管的输出窗,降低成本。
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公开(公告)号:CN110799164B
公开(公告)日:2021-05-18
申请号:CN201780091650.3
申请日:2017-12-13
Applicant: 上海联影医疗科技股份有限公司
IPC: A61G7/00
Abstract: 用于在医疗过程中确定病床形变量的方法。所述方法可以包括确定病床在参考点处的第一形变量,所述第一形变量对应于所述病床的第一工作位置。所述方法还可以包括确定所述病床在所述参考点处的第二形变量,所述第二形变量对应于所述病床的第二工作位置。所述方法还可以包括确定所述第一形变量和所述第二形变量之间的差值;根据所述第一形变量和所述第二形变量之间的差值,调整所述病床的所述第一工作位置和所述第二工作位置中的一个。
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公开(公告)号:CN106621075B
公开(公告)日:2021-01-08
申请号:CN201611197083.3
申请日:2016-12-22
Applicant: 上海联影医疗科技股份有限公司
Inventor: 王理
IPC: A61N5/10
Abstract: 本发明涉及放射治疗领域,提出一种放射治疗装置,包括主体支架;治疗臂和治疗头,所述治疗臂的一端固定于所述主体支架的一侧,另一端向外延伸,所述治疗头固定于所述治疗臂的另一端,所述治疗头用于输出射束;电磁屏蔽单元,至少部分位于所述射束的路径上,所述电磁屏蔽单元包括导体,用于对电磁波进行屏蔽。本发明提供的放射治疗装置在对电磁干扰进行屏蔽的同时对射野和光野的影响可以忽略。
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公开(公告)号:CN114796894B
公开(公告)日:2025-03-25
申请号:CN202210338154.6
申请日:2018-11-14
Applicant: 上海联影医疗科技股份有限公司
IPC: A61N5/10 , A61B5/055 , G01R33/34 , G01R33/421 , G01R33/422 , G01R33/48 , G21K5/04 , H05H7/22
Abstract: 系统包括磁共振成像(MRI)装置(310),其被配置用于获取关于感兴趣区域(ROI)的MRI数据,以及放射治疗装置(300),其被配置用于放射治疗感兴趣区域的至少一部分。
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公开(公告)号:CN118987507A
公开(公告)日:2024-11-22
申请号:CN202411097232.3
申请日:2021-03-12
Applicant: 上海联影医疗科技股份有限公司
Abstract: 放射系统(100)可以包括治疗头(210)、探测器(250)、多个成像源(220、230、240)和机架(111)。治疗头(210)、探测器(250)和多个成像源(220、230、240)可以安装在机架(111)上。治疗头(210)可以被配置为向对象传送治疗束。多个成像源(220、230、240)可以被配置为向对象传送多个成像束。多个成像源中的至少两个可以共用探测器(250)。探测器(250)可以被配置为探测多个成像束中的至少两个。被探测到的至少两个成像束可以由至少两个成像源的不同成像源发射。
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