单层膜及由其构成的亲水性材料

    公开(公告)号:CN103025766A

    公开(公告)日:2013-04-03

    申请号:CN201180035803.5

    申请日:2011-07-25

    Inventor: 冈崎光树

    CPC classification number: C08G75/24 C08F2/38 C08F222/1006 C08J7/047 C09D4/00

    Abstract: 本发明的目的在于稳定地提供一种阴离子性亲水基团集中在与空气接触的表面上且透明性、基材密合性优异的、存在裂纹少的倾向的亲水性固化物,例如单层膜。将包含具有2个以上的(甲基)丙烯酰基的多元单体(II)、及具有特定基团和磺酸基的化合物(IV)的混合物涂布于基材上等,根据需要进行干燥,然后聚合,制造由树脂组合物形成的亲水性固化物或单层膜。

    亲水性单层膜
    15.
    发明授权

    公开(公告)号:CN106459653B

    公开(公告)日:2019-03-01

    申请号:CN201580022466.4

    申请日:2015-05-12

    Inventor: 冈崎光树

    Abstract: 本发明提供一种亲水基在表面上偏析的由交联树脂形成的亲水性和透明性优异的单层膜,及亲水性、防雾性、防污性等优异的具有该单层膜的材料。本发明中,制作一种单层膜,所述单层膜是由交联树脂形成的,所述交联树脂是通过将下述组合物聚合而得到的,所述组合物含有化合物(I)及化合物(II),所述化合物(I)具有阴离子性亲水基、和具有聚合性碳-碳双键的官能团,所述化合物(II)具有3个以上羟基、3个以上具有聚合性碳-碳双键的官能团,该单层膜的阴离子性亲水基的表面浓度(Sa)与该单层膜膜厚1/2地点处的该亲水基的深部浓度(Da)的倾斜度(Sa/Da)为1.1以上。

    组合物及由其形成的膜
    18.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103842401B

    公开(公告)日:2016-12-21

    申请号:CN201280048438.6

    申请日:2012-10-12

    CPC classification number: C09D133/14 C08G59/32 C09D133/26 C09D163/00

    Abstract: 本发明提供一种组合物及将该组合物固化而得到的亲水性膜,所述组合物包含聚合物(i)和硅烷化合物(ii),所述聚合物(i)具有-SO3M基和环氧基,该M表示氢原子、碱金属、碱土金属、或铵离子,所述硅烷化合物(ii)具有2个以上的键合于硅烷原子的羟基、烷氧基、或卤素原子。本发明的亲水性膜的亲水性、耐久性、及耐磨耗性·耐气候性优异,具有高的防雾性、防污性、防静电性、速干性(水的蒸发)。因此,本发明还可以提供将本发明的亲水性膜层合在基材上而形成的各种层合体。

    组合物及由其形成的膜
    19.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103842401A

    公开(公告)日:2014-06-04

    申请号:CN201280048438.6

    申请日:2012-10-12

    CPC classification number: C09D133/14 C08G59/32 C09D133/26 C09D163/00

    Abstract: 本发明提供一种组合物及将该组合物固化而得到的亲水性膜,所述组合物包含聚合物(i)和硅烷化合物(ii),所述聚合物(i)具有-SO3M基和环氧基,该M表示氢原子、碱金属、碱土金属、或铵离子,所述硅烷化合物(ii)具有2个以上的键合于硅烷原子的羟基、烷氧基、或卤素原子。本发明的亲水性膜的亲水性、耐久性、及耐磨耗性·耐气候性优异,具有高的防雾性、防污性、防静电性、速干性(水的蒸发)。因此,本发明还可以提供将本发明的亲水性膜层合在基材上而形成的各种层合体。

    底涂层剂组合物
    20.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101952381A

    公开(公告)日:2011-01-19

    申请号:CN200980106027.6

    申请日:2009-03-09

    Inventor: 冈崎光树

    Abstract: 本发明提供一种底涂层剂组合物,所述底涂层剂组合物能够使金属、金属氧化物、玻璃、陶瓷、水泥、灰浆等无机基材与丙烯酸类树脂的粘合性优异,优选用作使两者粘合的底涂层剂。底涂层剂组合物通过混合下述物质制成:(a)1分子中具有至少2个以上巯基的多硫醇;和(b)硅烷化合物,1分子所述硅烷化合物中具有至少1个以上与巯基具有反应性的官能团及至少1个以上烷氧基甲硅烷基;和水。

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