一种激光直写装置及激光直写方法
    121.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117055302A

    公开(公告)日:2023-11-14

    申请号:CN202311111879.2

    申请日:2023-08-31

    Abstract: 本发明涉及一种激光直写装置及激光直写方法,包括线光输出单元、第一反射镜、转动单元和调制面,所述线光输出单元对所述第一反射镜入射线形光,所述第一反射镜将线形光反射至所述调制面上,所述第一反射镜通过所述转动单元相对所述线光输出单元和所述调制面转动设置。本发明采用线形光对光刻胶进行直写,仅需要第一反射镜依靠转动单元在单个平面内转动即可,既不需要平移,也不需要在其他平面内转动,第一反射镜所需活动自由度明显下降,对应的线形光在调制面上仅需要在一个维度上进行移动扫描即可,降低了直写过程所需自由度,简化了直写过程,直写效率较高。同时扫描过程的简化也使激光直写装置获得了简化,有利于整个激光直写装置的小型化。

    视频级实时结构光照明超分辨显微成像方法和系统

    公开(公告)号:CN116503246B

    公开(公告)日:2023-11-14

    申请号:CN202310305965.0

    申请日:2023-03-27

    Abstract: 基于深度学习的视频级实时结构光照明超分辨显微成像方法,包括以下步骤:训练数据集的获取和处理,轻量化神经网络的搭建、训练和调整,模型整合,视频级实时SIM超分辨重构。本发明还包括基于深度学习的视频级实时结构光照明超分辨显微成像系统。本发明可实现视频级实时SIM超分辨显微重构,网络结构轻量化,硬件要求低,可在低信噪比实验条件下对待测样品进行视频级实时超分辨SIM重构观测,从而帮助用户更加友好、更加灵活地选择拍摄目标,获取更丰富更有价值的实验数据。

    一种激光直写系统及激光直写方法
    124.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117031891A

    公开(公告)日:2023-11-10

    申请号:CN202311112422.3

    申请日:2023-08-31

    Abstract: 本发明涉及一种激光直写系统及激光直写方法,包括激发光源、抑制光源、微镜阵列和位移台,所述微镜阵列包括阵列排布的至少两个微镜,所述微镜具有第一角度状态和第二角度状态;所述激发光源通过处于第一角度状态的所述微镜照射至所述位移台处,以形成刻写图案,所述抑制光源通过处于第二角度状态的所述微镜照射至所述位移台处,以形成抑制光斑,所述抑制光斑位于所述刻写图案的边界处。

    双光子刻写功率补偿模板构建方法及刻写功率调节方法

    公开(公告)号:CN116974155A

    公开(公告)日:2023-10-31

    申请号:CN202310982115.4

    申请日:2023-08-07

    Abstract: 本发明涉及双光子刻写功率补偿模板构建方法及刻写功率调节方法,包括:在标准直写视场内将设定功率为P0的激光照射至光刻胶上产生艾里斑,获取艾里斑长度l,以确定标准直写视场中光刻胶的刻蚀深度b0;基于b0确定标准直写视场中对应光刻胶的刻蚀体积V0;获取标准直写视场中刻蚀体积为V0的光刻胶发出的标准荧光强度F0;基于F0=ΩV0确定Ω,Ω为单位体积光刻胶发出的荧光强度;对样本直写视场进行分割,以获得至少两个样本视场分区,获取第n个样本视场分区的面积Sn、激光设定功率Pn以及实际荧光强度为Fn';基于Ω、Sn以及Fn'确定第n个样本视场分区的实际刻写功率Pn';基于Pn'和Pn确定第n个样本视场分区的补偿系数Ψn;基于所有样本视场分区的补偿系数构件刻写功率补偿模板。

    分光检测系统和光束指向检测与稳定系统

    公开(公告)号:CN116754066A

    公开(公告)日:2023-09-15

    申请号:CN202310425344.6

    申请日:2023-04-18

    Abstract: 本申请提供一种分光检测系统和光束指向检测与稳定系统。分光检测系统用于检测光束指向控制组件出射的光束的性质,包括分光检测组件和控制器。分光检测组件包括分光组件和检测组件,分光组件用于反射和透射光束,检测组件用于接收光束反射形成的反射光束,检测反射光束的性质。控制器连接于检测组件和光束指向控制组件之间,控制器用于根据反射光束的性质,确定光束调整量,控制光束指向控制组件根据光束调整量调制光源发出的光束。本申请提供的分光检测系统通过设置控制器根据检测组件检测得到的光束性质,控制光束指向控制组件调制光源发出的光束,降低光束在长距离传播的过程中的偏移和光学器件引入的指向误差,提高光束的稳定性。

    矢量三维灰度激光直写光刻方法、装置及系统

    公开(公告)号:CN116661253A

    公开(公告)日:2023-08-29

    申请号:CN202310467568.3

    申请日:2023-04-25

    Abstract: 本申请涉及一种矢量三维灰度激光直写光刻方法、装置及系统。方法包括:基于待刻写结构的二维灰度图生成若干组三维灰度刻写数据;每一组三维灰度刻写数据表示一个拼接单元;将每组三维灰度刻写数据转化为矢量刻写数据和扫描位置数据;将矢量刻写数据输出至高速光调制器件控制刻写激光的强度,将扫描位置数据输出至扫描器件控制刻写激光的扫描位置,直到完成对所有拼接单元的刻写。采用本方法能够实现矢量刻写控制,回避非必要区域刻写,有效提高刻写效率,并将传统的层切数据替换为灰度层切数据,解决了逐层刻写过程中层与层之间的台阶问题。

    基于结构光照明和深度学习的光片显微镜单帧自聚焦方法

    公开(公告)号:CN116540394A

    公开(公告)日:2023-08-04

    申请号:CN202310385698.2

    申请日:2023-04-12

    Applicant: 浙江大学

    Abstract: 本发明公开了一种基于结构光照明和深度学习的光片显微镜单帧自聚焦方法,包括以下步骤:对光束进行整形,形成复合多个深度且横向错开的结构光照明样品并保持固定不动;移动探测物镜拍摄多个图像堆栈并输入到深度傅里叶神经网络中进行训练;利用相同的深度复合结构光照明样品并拍摄一帧样品图像输入到训练好的网络中进行离焦预测;最终根据网络输出的结果完成离焦补偿。本发明实现利用单帧图像完成光片显微镜的离焦预测,解决传统自聚焦方案中需要扫描多帧图像的问题,提升系统长时程高质量成像能力;深度傅里叶神经网络对离焦判断快、精度高,有利于提高光片显微镜的成像速度,其所需训练集数量少、网络泛化性好,有助于提高网络的可获得性。

Patent Agency Ranking