一种GIS设备密封法兰沟槽端面纹理结构

    公开(公告)号:CN118705450A

    公开(公告)日:2024-09-27

    申请号:CN202410735186.9

    申请日:2024-06-07

    Abstract: 本发明涉及GIS设备密封法兰技术领域,公开了一种GIS设备密封法兰沟槽端面纹理结构,包括第一法兰,所述第一法兰上开设有密封沟槽,所述密封沟槽的第一端面与所述密封圈侧壁接触,所述第一端面周向均布有第一纹理和第二纹理,所述第一纹理和所述第二纹理沿所述第一法兰径向间隔均布,所述第一纹理包括直线段以及弯折段,所述直线段的两端对称设有所述弯折段,所述直线段的延伸方向垂直气体进气方向设置,所述弯折段背向所述第一法兰轴心设置。本发明的有益效果:在密封沟槽上设置纹理结构,阻碍气体泄露,避免设备内部的气体发生大量泄露,利于密封圈与密封沟槽间接触时压力分散,避免密封圈局部结构发生形变、硬化或破裂,延长密封圈的使用寿命。

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