公开(公告)号：CN101427183A

公开(公告)日：2009-05-06

申请号：CN200780014538.6

申请日：2007-03-14

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 能村仲笃 ,  今野洋助 ,  杉田光 ,  高桥纯一

IPC: G03F7/11 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/091 ,  G03F7/094 ,  G03F7/11 ,  Y10S430/106

Abstract: 本发明提供一种下层膜形成用组合物，其中，含有具有下述通式(1)所示的萘衍生物结构单元的聚合物(A)，通式(1)中，R1表示羟基等，X表示碳原子数为1～20的可以取代的亚烷基等，n是0～6的整数，m是1～8的整数，n+m是1～8的整数，多个R1和X可以相同也可以不同。

公开(公告)号：CN101563652A

公开(公告)日：2009-10-21

申请号：CN200780046971.8

申请日：2007-11-19

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 能村仲笃 ,  今野洋助

IPC: G03F7/11 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/095 ,  G03F7/11

Abstract: 本发明涉及抗蚀剂下层膜形成用组合物，含有在富勒烯骨架中至少键合有一个氨基的(A)氨基化富勒烯和(B)溶剂，蚀刻耐性优异，且在干蚀刻工艺中下层膜图案难以折曲，可以将抗蚀剂图案忠实地、再现性良好地转印在被加工基板上。