公开(公告)号：CN108780284A

公开(公告)日：2018-11-09

申请号：CN201780017114.9

申请日：2017-02-27

Applicant: AZ电子材料(卢森堡)有限公司

Inventor： 宫本义大 ,  片山朋英 ,  佐尾高步

IPC: G03F7/40 ,  G03F7/004 ,  G03F7/031 ,  G03F7/033

CPC classification number: G03F7/40 ,  G03F7/004 ,  G03F7/031 ,  G03F7/033

Abstract: [问题]提供一种微细图案形成用组合物、以及使用其的微细图案形成方法，所述微细图案形成用组合物即使适用于厚膜抗蚀层，也使得图案形状良好，尺寸缩小率高，缺陷数少。[解决方案]一种组合物、以及使用其的微细图案形成方法，所述组合物包含乙烯基树脂、具有特定的笼型的立体结构的胺类化合物、以及溶剂。

公开(公告)号：CN108780284B

公开(公告)日：2022-04-12

申请号：CN201780017114.9

申请日：2017-02-27

Applicant: AZ电子材料(卢森堡)有限公司

Inventor： 宫本义大 ,  片山朋英 ,  佐尾高步

IPC: G03F7/40 ,  G03F7/004 ,  G03F7/031 ,  G03F7/033

Abstract: 提供一种微细图案形成用组合物、以及使用其的微细图案形成方法，所述微细图案形成用组合物即使适用于厚膜抗蚀层，也使得图案形状良好，尺寸缩小率高，缺陷数少。[解决方案]一种组合物、以及使用其的微细图案形成方法，所述组合物包含乙烯基树脂、具有特定的笼型的立体结构的胺类化合物、以及溶剂。

公开(公告)号：CN104995564B

公开(公告)日：2019-12-10

申请号：CN201480008277.7

申请日：2014-02-26

Applicant: AZ电子材料(卢森堡)有限公司

Inventor： 山本和磨 ,  宫本义大 ,  关藤高志 ,  长原达郎

IPC: G03F7/40 ,  G03F7/038 ,  G03F7/32 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明提供一种组合物以及使用该组合物的图案形成方法，该组合物可形成没有表面皲裂、桥连缺陷或者未析像等不良现象的微细的负型光致抗蚀图案。一种微细图案形成用组合物，其通过应用于使用化学放大型抗蚀组合物而形成出的负型抗蚀图案，使抗蚀图案变粗而将图案进行微细化。该组合物包含在重复单元中含有氨基的聚合物或聚合物混合物以及溶剂，并且进一步包含特定量的酸，或者显示特定的pH。而且，聚合物混合物包含根据汉森溶解度参数而确定的HSP距离为3以上的多种聚合物。将该组合物涂布于由有机溶剂显影液进行显影而获得的负型光致抗蚀图案，并进行加热，从而形成微细的图案。

公开(公告)号：CN104995564A

公开(公告)日：2015-10-21

申请号：CN201480008277.7

申请日：2014-02-26

Applicant: AZ电子材料(卢森堡)有限公司

Inventor： 山本和磨 ,  宫本义大 ,  关藤高志 ,  长原达郎

IPC: G03F7/40 ,  G03F7/038 ,  G03F7/32 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明提供一种组合物以及使用该组合物的图案形成方法，该组合物可形成没有表面皲裂、桥连缺陷或者未析像等不良现象的微细的负型光致抗蚀图案。一种微细图案形成用组合物，其通过应用于使用化学放大型抗蚀组合物而形成出的负型抗蚀图案，使抗蚀图案变粗而将图案进行微细化。该组合物包含在重复单元中含有氨基的聚合物或聚合物混合物以及溶剂，并且进一步包含特定量的酸，或者显示特定的pH。而且，聚合物混合物包含根据汉森溶解度参数而确定的HSP距离为3以上的多种聚合物。将该组合物涂布于由有机溶剂显影液进行显影而获得的负型光致抗蚀图案，并进行加热，从而形成微细的图案。