公开(公告)号：CN100456133C

公开(公告)日：2009-01-28

申请号：CN200310120288.8

申请日：2003-12-12

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： M·C·范比克 ,  L·P·巴克 ,  T·H·J·比斯肖普斯 ,  J·乔克斯 ,  M·克鲁恩 ,  R·A·M·沃特斯 ,  A·J·H·马亚斯

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 一种光刻投射设备，其包括：用于支承形成图案装置的支承结构，该形成图案装置用来按照所需图案为投射射束形成图案；用于保持基底的基底台；用于将形成图案射束投射在基底靶部的投射系统；连接到气体源上并提供自由基射束的向下流自由基产生源；以及用于将所述自由基射束引导在将要清理的表面上的装置。其中，该向下流自由基产生源包括位于来自气体供应装置的气体流内的高温元件，该高温元件的温度足以造成热离解以便形成自由基。本发明还提供一种器件制造方法。

公开(公告)号：CN1506766A

公开(公告)日：2004-06-23

申请号：CN200310120288.8

申请日：2003-12-12

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： M·C·范比克 ,  L·P·巴克 ,  T·H·J·比斯肖普斯 ,  J·乔克斯 ,  M·克鲁恩 ,  R·A·M·沃特斯 ,  A·J·H·马亚斯

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70925 ,  B08B7/0057

Abstract: 使用向下流自由基产生源(10)产生自由基射束(7)以便从表面(8)上清理污染物。

公开(公告)号：CN1495528B

公开(公告)日：2011-10-12

申请号：CN03132763.X

申请日：2003-08-13

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： L·P·巴克科 ,  J·乔克斯 ,  F·J·P·舒厄曼斯 ,  H·M·维斯塞

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  H01L21/68

CPC classification number: B82Y10/00 ,  G02B17/004 ,  G02B17/006 ,  G02B27/0043 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70175 ,  G03F7/70891 ,  G03F7/70916

Abstract: 本发明披露一种光刻投射装置，包括可产生辐射投射光束的辐射系统，投射光束来自辐射源射出的辐射；用于支撑构图部件的支撑结构，当由投射光束辐射时提供带图案的投射光束；用于固定基底的基底台；以及投射系统，设置和安排为将构图部件的照射部分成像在基底的靶部上。辐射系统进一步包括离开光轴一段距离的孔径，从光源方向看位于孔径之后的反射器，以及位于孔径之后的低辐射强度区域内的结构。

公开(公告)号：CN1495528A

公开(公告)日：2004-05-12

申请号：CN03132763.X

申请日：2003-08-13

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： L·P·巴克科 ,  J·乔克斯 ,  F·J·P·舒厄曼斯 ,  H·M·维斯塞

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  H01L21/68

CPC classification number: B82Y10/00 ,  G02B17/004 ,  G02B17/006 ,  G02B27/0043 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70175 ,  G03F7/70891 ,  G03F7/70916

Abstract: 本发明披露一种光刻投射装置，包括可产生辐射投射光束的辐射系统，投射光束来自辐射源射出的辐射；用于支撑构图部件的支撑结构，当由投射光束辐射时提供带图案的投射光束；用于固定基底的基底台；以及投射系统，设置和安排为将构图部件的照射部分成像在基底的靶部上。辐射系统进一步包括离开光轴一段距离的孔径，从光源方向看位于孔径之后的反射器，以及位于孔径之后的低辐射强度区域内的结构。