公开(公告)号：CN115666504A

公开(公告)日：2023-01-31

申请号：CN202180038507.4

申请日：2021-05-27

Applicant: 花王株式会社

Inventor： 前川智夏 ,  须泽朋之 ,  石川和高

IPC: A61K8/89 ,  A61Q5/00 ,  A61Q5/06

Abstract: 本发明涉及一种化妆品组合物，其含有：(A)硅氧烷覆膜形成剂、(B)聚合度为2,350以上20,000以下的高分子量有机聚硅氧烷、及(C)具有阳离子性基的除成分(A)及成分(B)以外的有机聚硅氧烷，且成分(A)～(C)的合计含量为2质量％以上50质量％以下，水的含量为10质量％以下。

公开(公告)号：CN115666507A

公开(公告)日：2023-01-31

申请号：CN202180038501.7

申请日：2021-05-27

Applicant: 花王株式会社

Inventor： 前川智夏 ,  须泽朋之 ,  石川和高

IPC: A61K8/898 ,  A61K8/19 ,  A61K8/31 ,  A61K8/89 ,  A61Q5/06 ,  A61Q5/12

Abstract: 一种化妆品组合物，其含有：(A)有机硅覆膜形成剂；和(B)具有聚环氧烷部位和阳离子性基团的除成分(A)以外的有机聚硅氧烷，水的含量为50质量％以下。

公开(公告)号：CN115666507B

公开(公告)日：2024-12-31

申请号：CN202180038501.7

申请日：2021-05-27

Applicant: 花王株式会社

Inventor： 前川智夏 ,  须泽朋之 ,  石川和高

IPC: A61K8/898 ,  A61K8/19 ,  A61K8/31 ,  A61K8/89 ,  A61Q5/06 ,  A61Q5/12

Abstract: 一种化妆品组合物，其含有：(A)有机硅覆膜形成剂；和(B)具有聚环氧烷部位和阳离子性基团的除成分(A)以外的有机聚硅氧烷，水的含量为50质量％以下。