公开(公告)号：CN115666504A

公开(公告)日：2023-01-31

申请号：CN202180038507.4

申请日：2021-05-27

Applicant: 花王株式会社

Inventor： 前川智夏 ,  须泽朋之 ,  石川和高

IPC: A61K8/89 ,  A61Q5/00 ,  A61Q5/06

Abstract: 本发明涉及一种化妆品组合物，其含有：(A)硅氧烷覆膜形成剂、(B)聚合度为2,350以上20,000以下的高分子量有机聚硅氧烷、及(C)具有阳离子性基的除成分(A)及成分(B)以外的有机聚硅氧烷，且成分(A)～(C)的合计含量为2质量％以上50质量％以下，水的含量为10质量％以下。

公开(公告)号：CN104428330B

公开(公告)日：2016-05-18

申请号：CN201380033760.6

申请日：2013-06-04

Applicant: 花王株式会社

Inventor： 前川智夏 ,  小原周一郎 ,  宫崎千寻

IPC: C08F283/12 ,  A61K8/898 ,  A61Q5/06 ,  C08F2/38

CPC classification number: C08G77/42 ,  A61K8/898 ,  A61K8/91 ,  A61Q5/06 ,  A61Q5/12 ,  C08F2/38 ,  C08F283/12 ,  C08F220/54

Abstract: 本发明涉及一种有机聚硅氧烷接枝聚合物，其中，作为主链具有有机聚硅氧烷链段，作为侧链具有由不饱和单体得到的聚合物链段，在所述由不饱和单体得到的聚合物链段中，含有50质量％以上且100质量％以下的由N,N-二甲基丙烯酰胺得到的重复单元，且有机聚硅氧烷接枝聚合物中有机聚硅氧烷链段的含量为10质量％以上且70质量％以下。

公开(公告)号：CN104812790A

公开(公告)日：2015-07-29

申请号：CN201380061789.5

申请日：2013-11-05

Applicant: 花王株式会社

Inventor： 大庭千寻 ,  小原周一郎 ,  前川智夏 ,  中园智美

IPC: C08F283/12 ,  A61K8/895 ,  A61Q5/06

CPC classification number: A61K8/89 ,  A61K8/895 ,  A61Q5/06 ,  C08F220/34 ,  C08F226/06 ,  C08F283/12 ,  C08G77/388 ,  C08G77/42 ,  C08G77/442

Abstract: 本发明涉及一种有机聚硅氧烷接枝聚合物，所述有机聚硅氧烷接枝聚合物具有有机聚硅氧烷链段作为主链、且具有来自不饱和单体的聚合物链段作为侧链，有机聚硅氧烷接枝聚合物中的所述有机聚硅氧烷链段的含量为35质量％以上且70质量％以下，在所述来自不饱和单体的聚合物链段中，含有40质量％以上且90质量％以下的来自玻璃化转变温度Tg为60℃以上的非离子性不饱和单体的重复单元(但是，不包括来自具有氨基的不饱和单体的重复单元)，而且含有10质量％以上且60质量％以下的来自阳离子性不饱和单体的重复单元。

公开(公告)号：CN119278024A

公开(公告)日：2025-01-07

申请号：CN202380043034.6

申请日：2023-05-31

Applicant: 花王株式会社

Inventor： 平贺大都 ,  前川智夏 ,  丸山亚久利 ,  古川淳一

IPC: A61K8/891 ,  A61K8/31 ,  A61K8/41 ,  A61K8/897 ,  A61K8/898 ,  A61Q5/00 ,  A61Q5/06 ,  A61Q5/12 ,  D06M13/513 ,  D06M15/21 ,  D06M15/263 ,  D06M15/643

Abstract: 本发明提供：(I)含有下述成分(A)～(C)且水的含量为10质量％以下的毛发处理剂或头饰制品用纤维处理剂；或者，(II)含有下述成分(A)、(B1)、(C)、及(D)的毛发处理剂或头饰制品用纤维处理剂，(A)包含(R1)3SiO1/2(R1表示可以取代有氟的碳原子数为1以上12以下的烃基或羟基。多个R1相互相同或不同)所示的M单元及SiO4/2所示的Q单元的覆膜形成性聚合物；(B)除上述成分(A)以外的覆膜形成性聚合物；(B1)将包含季铵阳离子的阳离子性聚合物除外的除上述成分(A)以外的覆膜形成性聚合物；(C)聚合度为2,200以上20,000以下的高分子量有机聚硅氧烷；(D)具有聚环氧烷部位及阳离子性基团的除上述成分(A)、(B1)、及(C)以外的有机聚硅氧烷。

公开(公告)号：CN115666507B

公开(公告)日：2024-12-31

申请号：CN202180038501.7

申请日：2021-05-27

Applicant: 花王株式会社

Inventor： 前川智夏 ,  须泽朋之 ,  石川和高

IPC: A61K8/898 ,  A61K8/19 ,  A61K8/31 ,  A61K8/89 ,  A61Q5/06 ,  A61Q5/12

Abstract: 一种化妆品组合物，其含有：(A)有机硅覆膜形成剂；和(B)具有聚环氧烷部位和阳离子性基团的除成分(A)以外的有机聚硅氧烷，水的含量为50质量％以下。

公开(公告)号：CN117794510A

公开(公告)日：2024-03-29

申请号：CN202280053217.1

申请日：2022-07-26

Applicant: 花王株式会社

Inventor： 前川智夏

IPC: A61K8/891 ,  A61Q5/06 ,  A61Q5/12 ,  A61K8/31 ,  A61K8/34 ,  A61K8/81

Abstract: 本发明的化妆品组合物含有成分(A)：包含(R1)3SiO1/2所示的M单元及SiO4/2所示的Q单元的成膜性聚合物(式中，R1表示可以取代有氟的碳原子数1以上12以下的烃基或羟基；多个R1相互相同或不同)、成分(B)：除成分(A)以外的成膜性聚合物、以及成分(C)：挥发性溶剂，其中，成分(C)的含量为50质量％以上。

公开(公告)号：CN117750938A

公开(公告)日：2024-03-22

申请号：CN202280053228.X

申请日：2022-07-26

Applicant: 花王株式会社

Inventor： 前川智夏

IPC: A61K8/895 ,  A61K8/891 ,  A61K8/81 ,  A61Q5/06 ,  A61Q5/10 ,  A61Q5/12

Abstract: 本发明的毛发化妆品组合物含有成分(A)：具有(R1)3SiO1/2所示的M单元及SiO4/2所示的Q单元的成膜性聚合物(式中，R1表示可以取代有氟的碳原子数1以上12以下的烃基或羟基；多个R1相互相同或不同)、成分(B)：除成分(A)以外的成膜性聚合物、以及成分(C)：水，成分(C)的含量为80质量％以下。

公开(公告)号：CN115666506A

公开(公告)日：2023-01-31

申请号：CN202180038502.1

申请日：2021-05-27

Applicant: 花王株式会社

Inventor： 前川智夏

IPC: A61K8/891 ,  A61K8/895 ,  A61Q5/06

Abstract: 本发明为一种化妆品组合物，其含有(A)有机硅覆膜形成剂和(B)聚合度为2,600以上4,500以下的高分子量有机聚硅氧烷，成分(A)的含有质量相对于成分(A)和成分(B)的合计含有质量的比率[(A)/((A)+(B))]为50％以上98％以下，水的含量为10质量％以下。

公开(公告)号：CN104812790B

公开(公告)日：2019-04-12

申请号：CN201380061789.5

申请日：2013-11-05

Applicant: 花王株式会社

Inventor： 大庭千寻 ,  小原周一郎 ,  前川智夏 ,  中园智美

IPC: C08F283/12 ,  A61K8/895 ,  A61Q5/06

Abstract: 本发明涉及一种有机聚硅氧烷接枝聚合物，所述有机聚硅氧烷接枝聚合物具有有机聚硅氧烷链段作为主链、且具有来自不饱和单体的聚合物链段作为侧链，有机聚硅氧烷接枝聚合物中的所述有机聚硅氧烷链段的含量为35质量％以上且70质量％以下，在所述来自不饱和单体的聚合物链段中，含有40质量％以上且90质量％以下的来自玻璃化转变温度Tg为60℃以上的非离子性不饱和单体的重复单元(但是，不包括来自具有氨基的不饱和单体的重复单元)，而且含有10质量％以上且60质量％以下的来自阳离子性不饱和单体的重复单元。

公开(公告)号：CN119947701A

公开(公告)日：2025-05-06

申请号：CN202380068842.8

申请日：2023-09-20

Applicant: 花王株式会社

Inventor： 前川智夏

IPC: A61K8/891 ,  A61K8/31 ,  A61K8/895 ,  A61K8/898 ,  A61Q5/00 ,  A61Q5/12

Abstract: 本发明的化妆品组合物含有下述成分(A)～(D)：(A)皮膜形成性聚合物，其包含：由(R1)3SiO1/2(R1表示可经氟取代的碳原子数1以上且12以下的烃基或羟基；多个R1可彼此相同也可不同)表示的M单元、及由SiO4/2表示的Q单元；(B)除上述成分(A)以外的皮膜形成性聚合物；(C)高分子量有机聚硅氧烷；(D)具有聚氧化烯部位及阳离子性基团的除上述成分(A)～(C)以外的有机聚硅氧烷。