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公开(公告)号：CN1601344A
公开(公告)日：2005-03-30
申请号：CN200410011984.X
申请日：2004-09-27
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: G02F1/1335 , G02B5/20 , B41J2/01 , B05C5/00
Abstract: 本发明的目的在于，使被喷出部上的涂布不均减少。其解决方法是，使第2喷头的基准喷嘴的X坐标，相对于从上述第1喷头的基准喷嘴的X坐标仅偏移第2长度的X坐标，再偏移第1长度的1/2倍；使第4喷头的基准喷嘴的X坐标，相对于从第3喷头的基准喷嘴的X坐标仅偏移上述第2长度的X坐标，再偏移上述第1长度的1/2倍；使上述第3喷头的基准喷嘴的上述X坐标，相对于从上述第2喷头的基准喷嘴的上述X坐标仅偏移上述第2长度的X坐标，偏移上述第1长度的1/4倍或者3/4倍。上述第1长度是喷头的X轴方向喷嘴间距。上述第2长度是上述第1长度和喷头的喷嘴数/4的积。
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公开(公告)号：CN100359377C
公开(公告)日：2008-01-02
申请号：CN200410011984.X
申请日：2004-09-27
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: G02F1/1335 , G02B5/20 , B41J2/01 , B05C5/00
Abstract: 本发明的目的在于，使被喷出部上的涂布不均减少。其解决方法是，使第2喷头的基准喷嘴的X坐标，相对于从上述第1喷头的基准喷嘴的X坐标仅偏移第2长度的X坐标，再偏移第1长度的1/2倍；使第4喷头的基准喷嘴的X坐标，相对于从第3喷头的基准喷嘴的X坐标仅偏移上述第2长度的X坐标，再偏移上述第1长度的1/2倍；使上述第3喷头的基准喷嘴的上述X坐标，相对于从上述第2喷头的基准喷嘴的上述X坐标仅偏移上述第2长度的X坐标，偏移上述第1长度的1/4倍或者3/4倍。上述第1长度是喷头的X轴方向喷嘴间距。上述第2长度是上述第1长度和喷头的喷嘴数/4的积。
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公开(公告)号：CN100379560C
公开(公告)日：2008-04-09
申请号：CN200410088143.9
申请日：2004-10-14
Applicant: 精工爱普生株式会社
CPC classification number: H01J9/02 , H01L51/0019 , H01L51/56
Abstract: 本发明提供一种喷出装置，喷出装置中的N个喷头中的每个之中，第一喷嘴列与第二喷嘴列之间的距离为DA，N个喷头的任一个喷头中的第二喷嘴列与和该任一个喷头在Y轴方向相邻的喷头中的第一喷嘴列之间的距离是DA的大约整数倍。由此，即使增加喷嘴数量，也可容易地控制喷出。
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公开(公告)号：CN1611356A
公开(公告)日：2005-05-04
申请号：CN200410088143.9
申请日：2004-10-14
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: B41J2/01 , B05C5/00 , G02B5/20 , H01J17/49 , G02F1/1335
CPC classification number: H01J9/02 , H01L51/0019 , H01L51/56
Abstract: 本发明提供一种喷出装置，喷出装置中的N个喷头中的每个之中，第一喷嘴列与第二喷嘴列之间的距离为DA，N个喷头的任一个喷头中的第二喷嘴列与和该任一个喷头在Y轴方向相邻的喷头中的第一喷嘴列之间的距离是DA的大约整数倍。由此，即使增加喷嘴数量，也可容易地控制喷出。
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