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公开(公告)号:CN1764686A
公开(公告)日:2006-04-26
申请号:CN200380110258.7
申请日:2003-12-04
Applicant: 积水化学工业株式会社
IPC: C08J3/14
Abstract: 本发明的目的是提供容易获得圆球度高、粒径均匀的树脂微粒的树脂微粒的制造方法、使用该树脂微粒的制造方法形成的树脂微粒、聚烯烃系树脂微粒、聚酯系树脂微粒、丙烯酸树脂微粒。本发明的树脂微粒的制造方法包括工序1和工序2,工序1中对树脂和常温常压下不溶解所述树脂的流体的混合物进行加热和/或加压,使所述流体中的至少一种成分处于超临界状态或者亚临界状态,在工序2中将所述流体降温而进行解压。
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公开(公告)号:CN100503695C
公开(公告)日:2009-06-24
申请号:CN200380110258.7
申请日:2003-12-04
Applicant: 积水化学工业株式会社
IPC: C08J3/14
Abstract: 本发明的目的是提供容易获得圆球度高、粒径均匀的树脂微粒的树脂微粒的制造方法、使用该树脂微粒的制造方法形成的树脂微粒、聚烯烃系树脂微粒、聚酯系树脂微粒、丙烯酸树脂微粒。本发明的树脂微粒的制造方法包括工序1和工序2,工序1中对树脂和常温常压下不溶解所述树脂的流体的混合物进行加热和/或加压,使所述流体中的至少一种成分处于超临界状态或者亚临界状态,在工序2中将所述流体降温而进行解压。
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公开(公告)号:CN1703459A
公开(公告)日:2005-11-30
申请号:CN200380100955.4
申请日:2003-10-03
Applicant: 积水化学工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种同时具有高物理特性和光学特性的热塑性饱和降冰片烯类树脂膜、光学膜、偏振器保护膜、相位差片、使用其形成的偏振片和热塑性饱和降冰片烯类树脂膜的制造方法。本发明涉及热塑性饱和降冰片烯类树脂膜,该热塑性饱和降冰片烯类树脂膜使用含有热塑性饱和降冰片烯类树脂100重量份和橡胶质聚合物5~40重量份的热塑性饱和降冰片烯类树脂组合物而形成,平行光线透过率为87%以上。
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公开(公告)号:CN1575313A
公开(公告)日:2005-02-02
申请号:CN02821282.7
申请日:2002-10-23
Applicant: 积水化学工业株式会社
IPC: C08J3/20 , C08J5/18 , C08L101/00
CPC classification number: C08J5/18 , C08J3/005 , C08L101/00 , Y02P20/544 , C08L2666/02
Abstract: 本发明的目的在于提供聚合物合金的制造方法、聚合物合金以及使用聚合物合金制成的成形品、透明成形品以及光学薄膜。本发明的聚合物合金的制造方法至少包括,将在常温常压下互不相溶的两种以上的树脂与常温常压下呈液状或者气状的溶剂混合的工序1;加热加压上述溶剂,形成高温高压流体或者超临界流体,并在该状态下进行混合的工序2;以及将由上述工序2中得到的混合物不经解压而迅速冷却至玻璃化转变温度以下的工序3。
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公开(公告)号:CN1571801A
公开(公告)日:2005-01-26
申请号:CN02820508.1
申请日:2002-10-16
Applicant: 积水化学工业株式会社
IPC: C08F8/12
CPC classification number: C08F8/28 , C08J5/18 , Y02P20/544 , C08F8/12 , C08F118/08 , C08F8/48 , C08F216/06 , C08F218/08
Abstract: 本发明的目的是提供能够在短时间内获得高纯度的改性高分子化合物的改性高分子化合物的制造方法、改性高分子化合物的制造装置以及改性高分子化合物。本发明是在超临界流体或者高温高压流体中对高分子化合物实施化学改性的改性高分子化合物的制造方法,其中,所得改性高分子化合物中的部分或者全部的构成改性反应前的高分子化合物的单体单元被化学改性。
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