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发明公开
一种原位制备共价有机框架混合基质膜的方法及应用审中-实审

公开(公告)号：CN119926204A

公开(公告)日：2025-05-06

申请号：CN202510054398.5

申请日：2025-01-13

Applicant: 湖南大学

Inventor： 王少飞 , 唐艳婷 , 王庆楠 , 余月杨朝 , 谷天贺

IPC: B01D71/56 , B01D71/52 , B01D53/22 , B01D67/00

Abstract: 本发明涉及气体分离膜技术领域，特别是一种在高分子基质中原位制备共价有机框架(COFs)混合基质膜的方法及其在CO2分离中的应用。该方法通过直接在高分子基质中引入COFs前驱体，利用溶剂分子促进前驱体发生席夫碱反应，实现COFs纳米颗粒在高分子基质中原位生成，从而制得共价有机框架混合基质膜。本发明方法不仅促进了COFs在高分子基质中的均匀分散，而且显著增强了COFs与高分子基质之间的界面相容性，所制备的膜材料展现出卓越的长期稳定性。本发明方法工艺简单，制备的共价有机框架混合基质膜在CO2分离领域具有重要的应用潜力。

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