公开(公告)号：CN109207964A

公开(公告)日：2019-01-15

申请号：CN201811275118.X

申请日：2018-10-19

Applicant: 济南大学

Inventor： 李志明 ,  赵丽丽 ,  过润秋 ,  张进成 ,  冯兰胜

IPC: C23C16/46

Abstract: 本发明的一种用于电阻加热式MOCVD反应室的加热装置，包括基座，基座包括圆柱形的导热体，导热体内底部开有若干个同心且深度不同的环形卡槽，每个环形卡槽内均设置有一个环形的加热电阻，环形卡槽和加热电阻的排布采用自带流体与热传导方程的多物理场仿真软件进行仿真，并将热传导模型与流体模型进行耦合计算得出。本发明的有益效果是：本发明通过调节加热电阻的产热量，并调节环形卡槽的尺寸，使导热体表面的温度分布均匀性提高。

公开(公告)号：CN108642477A

公开(公告)日：2018-10-12

申请号：CN201810533289.1

申请日：2018-05-24

Applicant: 济南大学

Inventor： 李志明 ,  赵丽丽 ,  过润秋 ,  张进成 ,  冯兰胜

IPC: C23C16/46 ,  C23C16/52 ,  C23C16/18

Abstract: 本发明的一种用于电磁加热MOCVD反应室的加热装置，包括基座和设置在基座底部下方的电磁线圈，基座包括圆柱形的导热体，导热体内底部嵌入有若干可与电磁线圈相配合产生热量的圆环形的感应产热传热体，若干感应产热传热体直径不同且感应产热传热体横截面所在的圆与导热体的横截面所在的圆同心。本发明的有益效果是：本发明调节了由基座产生的热量在基座各方向上的热传导速率，并调节衬底边缘的温度，使衬底的温度分布均匀性提高。