一种双亲分子修饰石墨烯基离子选择性膜及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN117427500A

    公开(公告)日:2024-01-23

    申请号:CN202311292713.5

    申请日:2023-10-08

    Applicant: 济南大学

    Abstract: 本发明公开了一种双亲分子修饰石墨烯基离子选择性膜及其制备方法和应用。本发明。将含有N(CH3)2+的阳离子表面活性剂水溶液和含有‑COO‑的聚合物水溶液,依次倒入碱性氧化石墨烯水溶液中,混合均匀后抽滤成膜,将膜进行烘干、退火,得到双亲分子修饰石墨烯基离子选择性膜。本发明中由于双十八烷COO基‑之间的静电相互作用二甲基溴化铵极性头,离子选择性膜表现出良的N(CH3)2+区域与聚丙好的离子选烯酸钠的‑择性能。双十八烷基二甲基溴化铵、聚丙烯酸钠和氧化石墨烯三方面协同作用,离子选择性膜从而展现出稳定的发电性能。

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