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公开(公告)号：CN106488893B
公开(公告)日：2020-08-07
申请号：CN201580038240.3
申请日：2015-06-23
Applicant: 法国圣戈班玻璃厂
Abstract: 本发明涉及用于制造发光器件的层压基板的方法，所述方法包括：(a)提供具有1.45至1.65的折射率的玻璃基板(1)，(b)将金属氧化物层(2)涂布在所述玻璃基板的一面上，(c)将具有至少1.7的折射率的玻璃料(3)涂布在所述金属氧化物层(2)上，所述玻璃料包含至少30重量%的Bi2O3，(d)在530℃至620℃的温度下烧制由此涂布的玻璃基板，从而使金属氧化物与熔融玻璃料反应并形成具有多个球形空隙(5)的高折射率搪瓷层(4)，所述球形空隙嵌入在玻璃基板的界面附近的搪瓷层的下部中。
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公开(公告)号：CN104364928B
公开(公告)日：2017-12-05
申请号：CN201380030883.4
申请日：2013-06-14
Applicant: 法国圣戈班玻璃厂
CPC classification number: H01L51/5268 , C03C3/066 , C03C3/068 , C03C8/04 , C03C8/20 , C03C17/002 , C03C17/007 , C03C17/3411 , C03C17/3435 , C03C17/42 , C03C2217/452 , C03C2217/475 , C03C2217/477 , C03C2217/478 , C03C2217/48 , C03C2217/70 , C03C2217/91 , C03C2217/948 , C03C2218/32 , H01L51/005 , H01L51/0055 , H01L51/0058 , H01L51/0072 , H01L51/0077 , H01L51/0081 , H01L51/0096 , H01L51/5012 , H01L51/5056 , H01L51/5072 , H01L51/5088 , H01L51/5092 , H01L51/5206 , H01L51/5215 , H01L51/5221 , H01L51/5262 , H01L51/56 , H01L2251/5346 , H01L2251/5369 , H01L2251/558 , Y10T428/24496 , Y10T428/249961
Abstract: 一种用于有机发光二极管（OLED）器件的分层结构，所述分层结构包括光透射衬底和形成在光透射衬底的一侧上的内部提取层，其中内部提取层包括（1）散射区域，其包含由固体颗粒和孔组成的散射元件，所述固体颗粒具有随其离开与光透射衬底的界面而减小的密度，并且所述孔具有随其离开与光透射衬底的界面而增加的密度，以及（2）其中不存在散射元件的自由区域，其从与所述界面相对的内部提取层的表面形成到预定深度。
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公开(公告)号：CN107431144A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：CN201680021834.8
申请日：2016-03-23
Applicant: 法国圣戈班玻璃厂
IPC: H01L51/52
Abstract: 本发明涉及一种适合作为有机发光器件（OLED）的支承体的分层结构，所述分层结构包括：(i)光透射玻璃基板，(ii)在所述光透射玻璃基板的一面上形成的具有由含有至少30重量%Bi2O3的玻璃制成的外层的漫射内部提取层（IEL），(iii)在所述IEL上形成的抗酸阻隔层，所述抗酸阻隔层具有由以下制成的双层结构-与IEL接触的ALD沉积的金属氧化物层(5)，所述金属氧化物选自氧化铝（Al2O3）、氧化钛（TiO2）、氧化锆（ZrO2）和氧化铪（HfO2），和-与所述ALD沉积的金属氧化物层接触的溅射沉积的SiOxNy层(4)。本发明还涉及制造适合作为OELD基板的这样的分层结构的方法。
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公开(公告)号：CN106488893A
公开(公告)日：2017-03-08
申请号：CN201580038240.3
申请日：2015-06-23
Applicant: 法国圣戈班玻璃厂
Abstract: 本发明涉及用于制造发光器件的层压基板的方法，所述方法包括：(a)提供具有1.45至1.65的折射率的玻璃基板(1)，(b)将金属氧化物层少1.7的折射率的玻璃料(3)涂布在所述金属氧化物层(2)上，所述玻璃料包含至少30重量%的Bi2O3，(d)在530℃至620℃的温度下烧制由此涂布的玻璃基板，从而使金属氧化物与熔融玻璃料反应并形成具有多个球形空隙(5)的高折射率搪瓷层(4)，所述球形空隙嵌入在玻璃基板的界面附近的搪瓷层的下部中。(2)涂布在所述玻璃基板的一面上，(c)将具有至
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公开(公告)号：CN104364928A
公开(公告)日：2015-02-18
申请号：CN201380030883.4
申请日：2013-06-14
Applicant: 法国圣戈班玻璃厂
CPC classification number: H01L51/5268 , C03C3/066 , C03C3/068 , C03C8/04 , C03C8/20 , C03C17/002 , C03C17/007 , C03C17/3411 , C03C17/3435 , C03C17/42 , C03C2217/452 , C03C2217/475 , C03C2217/477 , C03C2217/478 , C03C2217/48 , C03C2217/70 , C03C2217/91 , C03C2217/948 , C03C2218/32 , H01L51/005 , H01L51/0055 , H01L51/0058 , H01L51/0072 , H01L51/0077 , H01L51/0081 , H01L51/0096 , H01L51/5012 , H01L51/5056 , H01L51/5072 , H01L51/5088 , H01L51/5092 , H01L51/5206 , H01L51/5215 , H01L51/5221 , H01L51/5262 , H01L51/56 , H01L2251/5346 , H01L2251/5369 , H01L2251/558 , Y10T428/24496 , Y10T428/249961 , H01L51/50 , H01L51/52
Abstract: 一种用于有机发光二极管（OLED）器件的分层结构，所述分层结构包括光透射衬底和形成在光透射衬底的一侧上的内部提取层，其中内部提取层包括（1）散射区域，其包含由固体颗粒和孔组成的散射元件，所述固体颗粒具有随其离开与光透射衬底的界面而减小的密度，并且所述孔具有随其离开与光透射衬底的界面而增加的密度，以及（2）其中不存在散射元件的自由区域，其从与所述界面相对的内部提取层的表面形成到预定深度。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107001119B
公开(公告)日：2019-11-26
申请号：CN201580065046.4
申请日：2015-11-23
Applicant: 法国圣戈班玻璃厂
Abstract: 本发明涉及制备用于发光器件的层压基板的方法，所述方法包含下列相继步骤：(a)提供具有1.45至1.65的在550 nm下的折射率的玻璃基板(1)，(b)将包含至少30重量%的Bi2O3并具有至少1.7的在550 nm下的折射率的玻璃釉料(3)涂布到所述玻璃基板(1)上，(c)在高于所述玻璃釉料的Littleton温度的温度下烧制所得釉料涂布的玻璃基板，由此形成第一高折射率釉质层(4)，(d)将金属氧化物层(2)涂布到所述第一高折射率釉质层上，(e)在530℃至620℃的高于所述玻璃釉料的Littleton温度的温度下烧制所得涂布的玻璃基板，和任选地(f)在第二高折射率釉质层(5)上涂布透明导电层（TCL）(8)。
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公开(公告)号：CN105393378A
公开(公告)日：2016-03-09
申请号：CN201480033523.4
申请日：2014-06-13
Applicant: 法国圣戈班玻璃厂
IPC: H01L51/52
CPC classification number: H01L51/0096 , C03C3/066 , C03C8/16 , C03C17/007 , C03C17/3417 , C03C2205/00 , C03C2217/452 , C03C2217/475 , H01L51/5268 , H01L51/56 , H01L2251/305 , H01L2251/558 , Y02E10/549
Abstract: 本发明涉及透明漫射OLED基底，其包括以下相继的成分或层：（a）由具有1.48至1.58的折射率n1的矿物玻璃制成的透明平坦基底（1），（b）通过具有1.45至1.61的折射率n2的低折射率矿物粘合剂（2）附接在基底（1）的一面上的矿物颗粒单层（3），以及（c）覆盖矿物颗粒单层（3）的由具有包括在1.82和2.10之间的折射率n4的釉制成的高折射率层（4），所述矿物颗粒（3）具有包括在n2+0.08和n4-0.08之间的折射率n3并从低折射率矿物粘合剂（2）中突出以同高折射率层（4）直接接触，由此形成在矿物颗粒（3）和低折射率粘合剂（2）之间的第一漫射界面（DI1），以及在矿物颗粒（3）和高折射率层（4）之间的第二漫射界面（DI2）。
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公开(公告)号：CN105189384A
公开(公告)日：2015-12-23
申请号：CN201480028340.3
申请日：2014-04-29
Applicant: 法国圣戈班玻璃厂
CPC classification number: H01L51/0096 , C03C3/066 , C03C8/02 , C03C17/3417 , C03C2217/475 , C03C2217/734 , C03C2217/77 , H01L2251/558
Abstract: 本发明涉及透明漫射性OLED基材，其包含下列连续的元件或层：1.由具有介于1.45和1.65之间的折射率的矿物玻璃制成的透明平坦基材，包含矿物颗粒的粗糙的低折射率层，所述矿物颗粒通过低折射率搪瓷粘合到所述基材的一侧，在所述搪瓷的表面附近、所述搪瓷的表面处或自所述搪瓷的表面突出的矿物颗粒产生以介于0.15和3μm之间的算术平均偏差Ra为特征的表面粗糙度，所述矿物颗粒和搪瓷两者都具有介于1.45和1.65之间的折射率；2.由具有介于1.8和2.1之间的折射率的搪瓷制成的覆盖所述粗糙的低折射率层(b)的高折射率平坦化层。本发明还涉及制备这样的漫射性OLED基材的方法。
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公开(公告)号：CN104684860A
公开(公告)日：2015-06-03
申请号：CN201380050687.3
申请日：2013-09-24
Applicant: 法国圣戈班玻璃厂
CPC classification number: H01L51/5268 , C03C8/04 , C03C17/04 , C03C17/3417 , C03C19/00 , C03C2217/948 , C03C2218/17 , C03C2218/31 , H01L51/0096 , H01L51/5206 , Y10T428/24372
Abstract: 本发明被描述为制造透明扩散OLED基板的方法，其包括以下连续步骤：（a）用磨料浆研磨扁平半透明玻璃基板的一面或两面，以获得具有至少一个粗糙化表面的扁平玻璃基板，所述至少一个粗糙化表面具有算术平均偏差Ra为0.1μm至2.0μm、优选0.15μm至1.5μm、更优选0.2至小于1.0μm、最优选0.25μm至0.8μm的粗糙轮廓，（b）用具有至少1.7、优选1.7至2.2的折射率的高折射率玻璃釉料涂覆粗糙化表面或粗糙化表面之一，所述高折射率玻璃釉料的量足以在所述玻璃釉料熔融后完全覆盖所述粗糙化表面的粗糙轮廓；（c）将经涂覆的基板加热至高于所述高折射率玻璃釉料的熔融温度且低于下层基板的软化温度的温度，从而在所述粗糙化表面之一上形成高折射率搪瓷。
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公开(公告)号：CN107431144B
公开(公告)日：2019-10-01
申请号：CN201680021834.8
申请日：2016-03-23
Applicant: 法国圣戈班玻璃厂
IPC: H01L51/52
Abstract: 本发明涉及一种适合作为有机发光器件（OLED）的支承体的分层结构，所述分层结构包括：(i)光透射玻璃基板，(ii)在所述光透射玻璃基板的一面上形成的具有由含有至少30重量%Bi2O3的玻璃制成的外层的漫射内部提取层（IEL），(iii)在所述IEL上形成的抗酸阻隔层，所述抗酸阻隔层具有由以下制成的双层结构‑与IEL接触的ALD沉积的金属氧化物层(5)，所述金属氧化物选自氧化铝（Al2O3）、氧化钛（TiO2）、氧化锆（ZrO2）和氧化铪（HfO2），和‑与所述ALD沉积的金属氧化物层接触的溅射沉积的SiOxNy层(4)。本发明还涉及制造适合作为OELD基板的这样的分层结构的方法。
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