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公开(公告)号：CN119798668A
公开(公告)日：2025-04-11
申请号：CN202411821313.3
申请日：2024-12-11
Applicant: 江南大学
IPC: C08G77/26 , C09D183/08 , C09D7/62 , H10F19/80
Abstract: 本发明公开了一种光滑表面的自清洁涂层及其制备和应用，属于自清洁技术领域。本发明以KH‑792和甲氧基三甲基硅烷为原料，通过水解缩合反应合成了氨基端超支化硅氧烷；之后将氨基端超支化硅氧烷分散在无水乙醇中，形成氨基端超支化硅氧烷前驱体，涂覆在光滑表面，交联固化，形成光滑表面的自清洁涂层。且，涂层体系还可以通过添加纳米粒子，形成氨基端超支化聚硅氧烷‑改性粒子涂层。本发明制备氨基端超支化硅氧烷的方法简单；且用于光滑表面能形成稳定的疏水自清洁涂层；此外，氨基端超支化聚硅氧烷‑改性粒子涂层疏水、耐久性性能更好。
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