被覆构件
    1.
    发明公开
    被覆构件 审中-实审

    公开(公告)号:CN118922578A

    公开(公告)日:2024-11-08

    申请号:CN202380027757.7

    申请日:2023-03-08

    Abstract: 本发明的被覆构件包括:基材;以及硬质覆膜,形成于基材的表面,并且含有金属元素的氮化物或碳氮化物,其中,在硬质覆膜含有的金属元素和半金属元素的总量中,Al含量为65原子%以上且85原子%,Cr含量为15原子%以上且35原子%以下,并且,Al和Cr的合计含量为90原子%以上且100原子%以下,在根据透射电子显微镜的选区衍射图案求出的强度分布中,在基材附近和在表面附近显示最大峰强度的晶面不相同,在基材附近,与面心立方晶格结构的(111)面或(200)面对应的峰显示最大强度,在表面附近,与面心立方晶格结构的(220)面对应的峰强度为在与面心立方晶格结构的(200)面对应的峰强度和与(111)面对应的峰强度中的较大者的0.6倍以上。

    离子轰击装置以及离子轰击处理方法

    公开(公告)号:CN119948195A

    公开(公告)日:2025-05-06

    申请号:CN202380062087.2

    申请日:2023-08-14

    Abstract: 离子轰击装置(1)具有真空腔室(2)、基材支撑部(11)、丝(3)、放电电源(22)、丝加热电源(3T)以及磁场产生机构(20)。丝(3)具有一端部(31)和另一端部(32)。磁场产生机构(20)包括:在包含丝(3)的一端部(31)的区域中产生第1磁场的第1磁场产生部(201);以及在包含丝(3)的另一端部(32)的区域中产生第2磁场的第2磁场产生部(202)。由所述第1磁场及所述第2磁场增强丝(3)的端部附近的等离子体,从而能够降低等离子体密度的偏差、以及蚀刻量的偏差。

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