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发明公开
使用利文森型掩模的图形形成方法及该掩模的制造方法失效转让

公开(公告)号：CN1983024A

公开(公告)日：2007-06-20

申请号：CN200610173295.8

申请日：2006-12-15

Applicant: 株式会社瑞萨科技

Inventor： 奥野满 , 茂庭明美

IPC: G03F1/00 , H01L21/027

CPC classification number: G03F1/30 , G03F1/70 , G03F7/70466

Abstract: 一种图形形成方法，包括具有第一最小尺寸(Dmin1)的第一图形部(10a)和第二最小尺寸(Dmin2)的第二图形部(10b)，其中包括使用利文森型掩模进行曝光的第一曝光步骤和使用半色调型掩模进行曝光的第二曝光步骤。第二最小尺寸(Dmin2)为第一最小尺寸(Dmin1)的1.3倍以上时，第二曝光步骤的曝光量设为第一曝光步骤的曝光量以下。

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