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公开(公告)号：CN102584877A
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN201210004593.X
申请日：2006-01-28
Applicant: 株式会社日本触媒
IPC: C07F5/05
CPC classification number: C07F5/022
Abstract: 通过a)ABH4(A是锂原子、钠原子或钾原子)表示的碱金属硼氢化物与(RNH3)nX(R是氢原子或烷基，X是硫酸根或卤素原子，n为1或2)表示的胺盐的反应，或者b)乙硼烷(B2H6)和RNH2(R是氢原子或烷基)表示的胺的反应合成环硼氮烷化合物时，将原料的含水量控制在规定值以下，使用具有规定沸点的不同溶剂的混合溶剂作为反应用溶剂，或者在反应时将原料缓缓供给反应容器。或者，对环硼氮烷化合物进行蒸馏精制处理及过滤处理。这样，可以安全且高收率地制备高纯度的环硼氮烷化合物。
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公开(公告)号：CN1660855A
公开(公告)日：2005-08-31
申请号：CN200410047171.6
申请日：2004-12-17
Applicant: 株式会社日本触媒
IPC: C07F5/05
CPC classification number: C07F5/022
Abstract: 在合成由化学式2表示的烷基环硼氮烷化合物的方法中，通过由化学式1表示的卤代环硼氮烷化合物与格氏试剂反应合成得到烷基环硼氮烷化合物，然后用水洗涤合成的烷基环硼氮烷化合物，或者升华纯化或蒸馏纯化至少三次，和/或蒸馏纯化至少两次。在化学式中，R1独立地代表烷基；R2独立地代表烷基；和X代表卤素原子。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101310038B
公开(公告)日：2011-05-04
申请号：CN200680042613.5
申请日：2006-11-15
Applicant: 株式会社日本触媒
IPC: C23C16/38 , H01L21/314 , H01L21/768 , H01L23/522
CPC classification number: C23C16/342 , C07F5/02 , C23C16/30 , H01L21/314 , H01L21/318
Abstract: 本发明提供一种包含由化学式1表示的环硼氮烷化合物的化学气相沉积成膜用组合物，其满足以下至少一个条件：所述组合物中各种卤素原子的含量为100ppb以下的条件，或所述组合物中各种金属元素的含量为100ppb以下的条件。在化学式1中，R1可以相同或不同，其为氢原子、烷基、烯基或炔基，其至少之一为氢原子；R2可以相同或不同，其为氢原子、烷基、烯基或炔基，其至少之一为烷基、烯基或炔基。通过使用该组合物，可改进由含环硼氮烷环的化合物生产的薄膜的物理性质如低介电常数性和机械强度。[化学式1]
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公开(公告)号：CN1837220A
公开(公告)日：2006-09-27
申请号：CN200610067307.9
申请日：2006-01-28
Applicant: 株式会社日本触媒
Abstract: 通过a)ABH4(A是锂原子、钠原子或钾原子)表示的碱金属硼氢化物与(RNH3)nX(R是氢原子或烷基，X是硫酸根或卤素原子，n为1或2)表示的胺盐的反应，或者b)乙硼烷(B2H6)和RNH2(R是氢原子或烷基)表示的胺的反应合成环硼氮烷化合物时，将原料的含水量控制在规定值以下，使用具有规定沸点的不同溶剂的混合溶剂作为反应用溶剂，或者在反应时将原料缓缓供给反应容器。或者，对环硼氮烷化合物进行蒸馏精制处理及过滤处理。这样，可以安全且高收率地制备高纯度的环硼氮烷化合物。
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公开(公告)号：CN1837220B
公开(公告)日：2012-03-21
申请号：CN200610067307.9
申请日：2006-01-28
Applicant: 株式会社日本触媒
Abstract: 本发明公开了环硼氮烷化合物的制备方法。通过a)ABH4(A是锂原子、钠原子或钾原子)表示的碱金属硼氢化物与(RNH3)n(R是氢原子或烷基，X是硫酸根或卤素原子，n为1或2)表示的胺盐的反应，或者b)乙硼烷(B2H6)和RNH2(R是氢原子或烷基)表示的胺的反应合成环硼氮烷化合物时，将原料的含水量控制在规定值以下，使用具有规定沸点的不同溶剂的混合溶剂作为反应用溶剂，或者在反应时将原料缓缓供给反应容器。或者，对环硼氮烷化合物进行蒸馏精制处理及过滤处理。这样，可以安全且高收率地制备高纯度的环硼氮烷化合物。
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公开(公告)号：CN101310038A
公开(公告)日：2008-11-19
申请号：CN200680042613.5
申请日：2006-11-15
Applicant: 株式会社日本触媒
IPC: C23C16/38 , H01L21/314 , H01L21/768 , H01L23/522
CPC classification number: C23C16/342 , C07F5/02 , C23C16/30 , H01L21/314 , H01L21/318
Abstract: 本发明提供一种包含由化学式1表示的环硼氮烷化合物的化学气相沉积成膜用组合物，其满足以下至少一个条件：所述组合物中各种卤素原子的含量为100ppb以下的条件，或所述组合物中各种金属元素的含量为100ppb以下的条件。在化学式1中，R1可以相同或不同，其为氢原子、烷基、烯基或炔基，其至少之一为氢原子；R2可以相同或不同，其为氢原子、烷基、烯基或炔基，其至少之一为烷基、烯基或炔基。通过使用该组合物，可改进由含环硼氮烷环的化合物生产的薄膜的物理性质如低介电常数性和机械强度。
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公开(公告)号：CN1660855B
公开(公告)日：2011-03-30
申请号：CN200410047171.6
申请日：2004-12-17
Applicant: 株式会社日本触媒
IPC: C07F5/05
CPC classification number: C07F5/022
Abstract: 在合成由化学式2表示的烷基环硼氮烷化合物的方法中，通过由化学式1表示的卤代环硼氮烷化合物与格氏试剂反应合成得到烷基环硼氮烷化合物，然后用水洗涤合成的烷基环硼氮烷化合物，或者升华纯化或蒸馏纯化至少三次，和/或蒸馏纯化至少两次。在化学式中，R1独立地代表烷基；R2独立地代表烷基；和X代表卤素原子。[化学式1] [化学式2]
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