Patent search ap:("株式会社安永") AND inv:"村上僚祐" Page 1

1.

发明公开
断裂面检查装置和断裂面检查方法审中-实审

公开(公告)号：CN114667433A

公开(公告)日：2022-06-24

申请号：CN202080078164.X

申请日：2020-11-19

Applicant: 株式会社安永

Inventor： 村上僚祐

IPC: G01B11/25

Abstract: 一种检查由断裂分割而产生的第一断裂面(FS1)和第二断裂面(FS2)的断裂面检查装置(10)，所述断裂面检查装置(10)具备：数据获取部(20)，获取各个断裂面的各自的二维数据和三维数据；轮廓提取部(51)，根据二维数据提取第一断裂面(FS1)的第一轮廓和第二断裂面(FS2)的第二轮廓；变换量计算部(52)，计算对第二轮廓进行仿射变换来变换成第一轮廓时的变换量X(affine)；变形修正部(53)，用变换量X(affine)对第二断裂面(FS2)的三维数据进行仿射变换来计算变形修正数据；以及比较部(56)，对第一断裂面(FS1)的三维数据和变形修正数据进行比较。

Patent Agency Ranking