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公开(公告)号：CN114308050B
公开(公告)日：2024-01-16
申请号：CN202210049033.X
申请日：2018-12-14
Applicant: 株式会社东芝
IPC: B01J23/888 , B01J23/652 , B01J37/02 , B01D53/86 , B01D53/72 , A61L9/01 , A61L9/18 , A61L101/02
Abstract: 本发明的实施方式涉及带光催化剂的基材及其制造方法以及光催化装置。本发明可得到能简便地制作且难以剥离的带光催化剂的基材。实施方式的带光催化剂的基材包含：基材；基底层，所述基底层设置在基材上，在pH6的水中具有正的Zeta电位；和光催化剂层，所述光催化剂层设置在基底层上，含有具有负的Zeta电位的光催化剂材料。
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公开(公告)号：CN109954488A
公开(公告)日：2019-07-02
申请号：CN201811532251.9
申请日：2018-12-14
Applicant: 株式会社东芝
IPC: B01J23/30 , B01J37/02 , A62D3/17 , A61L9/01 , A61L9/18 , A62D101/28 , A61L101/02 , A62D101/40
Abstract: 本发明的实施方式涉及带光催化剂的基材及其制造方法以及光催化装置。本发明可得到能简便地制作且难以剥离的带光催化剂的基材。实施方式的带光催化剂的基材包含：基材；基底层，所述基底层设置在基材上，在pH6的水中具有正的Zeta电位；和光催化剂层，所述光催化剂层设置在基底层上，含有具有负的Zeta电位的光催化剂材料。
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公开(公告)号：CN1437212A
公开(公告)日：2003-08-20
申请号：CN03119869.4
申请日：2003-01-31
Applicant: 株式会社东芝
IPC: H01J9/14
Abstract: 一种荫罩的制造方法，包括：提供带状金属薄板12的工序，该带状金属薄板12包括具有多个凹部的第1主表面，以及与第1主表面相反一侧的、形成了具有多个开口的抗蚀剂层的第2主表面；在照相凹版滚筒的表面上涂敷耐腐蚀层涂敷液22的工序，该照相凹版滚筒22由至少表面具有1000以上的维氏硬度以及5％以下的空孔率的陶瓷材料18形成，该陶瓷材料的表面上具有保持耐腐蚀层涂敷液22的雕刻部19；以及使所述照相凹版滚筒16与所述带状金属薄板12的第1主表面接触，在所述带状金属薄板12的第1主表面上涂敷耐腐蚀层涂敷液22的工序。
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公开(公告)号：CN106659811B
公开(公告)日：2019-11-19
申请号：CN201580043868.2
申请日：2015-09-11
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 本发明涉及一种空间杀菌装置，其包含向被处理空间供给气状和/或雾状的次氯酸溶液的次氯酸溶液供给部，所述空间杀菌装置使被处理空间中的次氯酸浓度为400ppb～500ppm。本发明获得了能够规定不受次氯酸溶液的不良影响且可对被处理空间内充分地进行杀菌、除臭的次氯酸浓度并维持该浓度的空间杀菌装置。
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公开(公告)号：CN1438668A
公开(公告)日：2003-08-27
申请号：CN03120057.5
申请日：2003-01-31
Applicant: 株式会社东芝
IPC: H01J9/14
Abstract: 一种荫罩的制造方法，包括：在带状金属薄板7的第1主表面上利用第1照相凹版滚筒16涂敷耐腐蚀层涂敷液22的工序，该带状金属薄板7包括具有多个凹部的第1主表面，以及与第1主表面相反一侧的、形成了具有多个开口的抗蚀剂层的第2主表面；在从第2主表面侧用支承滚筒29支持所述带状金属薄板7的状态下，利用压入滚筒28，将耐腐蚀层涂敷液22填充到所述第1主表面的凹部中的工序；以及利用第2照相凹版滚筒16控制所述带状金属薄板7的第1主表面的耐腐蚀层涂敷液22的膜厚的工序。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109954488B
公开(公告)日：2022-10-04
申请号：CN201811532251.9
申请日：2018-12-14
Applicant: 株式会社东芝
IPC: B01J23/30 , B01J37/02 , A62D3/17 , A61L9/01 , A61L9/18 , A62D101/28 , A61L101/02 , A62D101/40
Abstract: 本发明的实施方式涉及带光催化剂的基材及其制造方法以及光催化装置。本发明可得到能简便地制作且难以剥离的带光催化剂的基材。实施方式的带光催化剂的基材包含：基材；基底层，所述基底层设置在基材上，在pH6的水中具有正的Zeta电位；和光催化剂层，所述光催化剂层设置在基底层上，含有具有负的Zeta电位的光催化剂材料。
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公开(公告)号：CN110270343B
公开(公告)日：2022-09-23
申请号：CN201910144899.7
申请日：2019-02-27
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 提供分散稳定且抗菌作用高的光催化剂分散液、高活性的光催化剂复合材料及光催化剂装置。一种分散液，其包含水、在20℃、pH6的水中Zeta电位为负的主催化剂粒子、和Zeta电位为正的助催化剂粒子，上述主催化剂粒子的平均粒径比上述助催化剂粒子的平均粒径小。
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公开(公告)号：CN114308050A
公开(公告)日：2022-04-12
申请号：CN202210049033.X
申请日：2018-12-14
Applicant: 株式会社东芝
IPC: B01J23/888 , B01J23/652 , B01J37/02 , B01D53/86 , B01D53/72 , A61L9/01 , A61L9/18 , A61L101/02
Abstract: 本发明的实施方式涉及带光催化剂的基材及其制造方法以及光催化装置。本发明可得到能简便地制作且难以剥离的带光催化剂的基材。实施方式的带光催化剂的基材包含：基材；基底层，所述基底层设置在基材上，在pH6的水中具有正的Zeta电位；和光催化剂层，所述光催化剂层设置在基底层上，含有具有负的Zeta电位的光催化剂材料。
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公开(公告)号：CN110270343A
公开(公告)日：2019-09-24
申请号：CN201910144899.7
申请日：2019-02-27
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 提供分散稳定且抗菌作用高的光催化剂分散液、高活性的光催化剂复合材料及光催化剂装置。一种分散液，其包含水、在20℃、pH6的水中Zeta电位为负的主催化剂粒子、和Zeta电位为正的助催化剂粒子，上述主催化剂粒子的平均粒径比上述助催化剂粒子的平均粒径小。
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公开(公告)号：CN106659811A
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201580043868.2
申请日：2015-09-11
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 本发明涉及一种空间杀菌装置，其包含向被处理空间供给气状和/或雾状的次氯酸溶液的次氯酸溶液供给部，所述空间杀菌装置使被处理空间中的次氯酸浓度为400ppb～500ppm。本发明获得了能够规定不受次氯酸溶液的不良影响且可对被处理空间内充分地进行杀菌、除臭的次氯酸浓度并维持该浓度的空间杀菌装置。
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