公开(公告)号：CN101254964A

公开(公告)日：2008-09-03

申请号：CN200810082285.2

申请日：2008-02-29

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 海贺信好 ,  中野壮一郎 ,  波多野晶纪

IPC: C02F1/32 ,  G01N21/64 ,  H05B41/36

CPC classification number: G01N21/64 ,  C02F1/008 ,  C02F1/325 ,  C02F2201/326 ,  C02F2209/001 ,  C02F2209/11

Abstract: 连续吸纳流入紫外线照射槽中的部分处理前的水被导引至荧光计。荧光计在固定在425纳米的荧光波长扫描处理前的水的激发光谱峰值波长以获激发光谱，并连续测量其激发峰值波长。紫外线照射等级控制装置根据荧光计获得的分析结果计算紫外线照射等级目标值，以优化紫外线照射等级。因而控制了从中发出的紫外线的照射等级。

公开(公告)号：CN100347101C

公开(公告)日：2007-11-07

申请号：CN200510067500.8

申请日：2005-04-22

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 出健志 ,  阿部法光 ,  有村良一 ,  栗原潮子 ,  毛受卓 ,  村山清一 ,  横川勝也 ,  君島和彦 ,  宮島康行 ,  黒川太 ,  中野壮一郎 ,  海賀信好

IPC: C02F1/78

Abstract: 供能够将臭氧注入量最优化，进行最佳的水处理的水处理控制系统。水处理控制装置14求出由被处理水水质计21测得的被处理水的水质指标和由臭氧处理水水质计24测得的臭氧处理水的水质指标的差值作为水质指标的变化量。将该水质指标的变化量除以被处理水的水质指标或臭氧处理水的水质指标求出水质指标变化率。水处理控制装置14根据该水质指标变化率控制臭氧气体注入装置19，调整臭氧气体注入量。

公开(公告)号：CN101254964B

公开(公告)日：2013-03-06

申请号：CN200810082285.2

申请日：2008-02-29

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 海贺信好 ,  中野壮一郎 ,  波多野晶纪

IPC: C02F1/32 ,  G01N21/64 ,  H05B41/36

CPC classification number: G01N21/64 ,  C02F1/008 ,  C02F1/325 ,  C02F2201/326 ,  C02F2209/001 ,  C02F2209/11

Abstract: 连续吸纳流入紫外线照射槽中的部分处理前的水被导引至荧光计。荧光计在固定在425纳米的荧光波长扫描处理前的水的激发光谱峰值波长以获激发光谱，并连续测量其激发峰值波长。紫外线照射等级控制装置根据荧光计获得的分析结果计算紫外线照射等级目标值，以优化紫外线照射等级。因而控制了从中发出的紫外线的照射等级。

公开(公告)号：CN101164914A

公开(公告)日：2008-04-23

申请号：CN200710152915.4

申请日：2005-04-22

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 出健志 ,  阿部法光 ,  有村良一 ,  栗原潮子 ,  毛受卓 ,  村山清一 ,  横川勝也 ,  君島和彦 ,  宮島康行 ,  黒川太 ,  中野壮一郎 ,  海賀信好

IPC: C02F1/78 ,  G01N21/64 ,  G01N33/18

Abstract: 供能够将臭氧注入量最优化，进行最佳的水处理的水处理控制系统。该水处理系统具有导入、装载作为处理对象的被处理水，排出已处理的处理水的处理槽；将臭氧气体注入前述处理槽的注入装置；测定前述被处理水的荧光强度的荧光强度测定手段；使用由前述荧光强度测定手段测得的荧光强度算出荧光强度残存率，根据该荧光强度残存率和前述臭氧气体的臭氧消耗效率的关系，算出与设定目标的荧光强度残存率相对应的目标臭氧消耗效率的运算手段；按照由前述运算手段算出的前述目标的臭氧消耗效率，控制由前述注入装置注入臭氧气体时的臭氧注入量的控制手段。

公开(公告)号：CN101164914B

公开(公告)日：2012-09-05

申请号：CN200710152915.4

申请日：2005-04-22

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 出健志 ,  阿部法光 ,  有村良一 ,  栗原潮子 ,  毛受卓 ,  村山清一 ,  横川勝也 ,  君島和彦 ,  宮島康行 ,  黒川太 ,  中野壮一郎 ,  海賀信好

IPC: C02F1/78 ,  G01N21/64 ,  G01N33/18

Abstract: 供能够将臭氧注入量最优化，进行最佳的水处理的水处理控制系统。该水处理系统具有导入、装载作为处理对象的被处理水，排出已处理的处理水的处理槽；将臭氧气体注入前述处理槽的注入装置；测定前述被处理水的荧光强度的荧光强度测定手段；使用由前述荧光强度测定手段测得的荧光强度算出荧光强度残存率，根据该荧光强度残存率和前述臭氧气体的臭氧消耗效率的关系，算出与设定目标的荧光强度残存率相对应的目标臭氧消耗效率的运算手段；按照由前述运算手段算出的前述目标的臭氧消耗效率，控制由前述注入装置注入臭氧气体时的臭氧注入量的控制手段。

公开(公告)号：CN1689981A

公开(公告)日：2005-11-02

申请号：CN200510067500.8

申请日：2005-04-22

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 出健志 ,  阿部法光 ,  有村良一 ,  栗原潮子 ,  毛受卓 ,  村山清一 ,  横川勝也 ,  君島和彦 ,  宫島康行 ,  黒川太 ,  中野壮一郎 ,  海賀信好

IPC: C02F1/78

Abstract: 供能够将臭氧注入量最优化，进行最佳的水处理的水处理控制系统。水处理控制装置14求出由被处理水水质计21测得的被处理水的水质指标和由臭氧处理水水质计24测得的臭氧处理水的水质指标的差值作为水质指标的变化量。将该水质指标的变化量除以被处理水的水质指标或臭氧处理水的水质指标求出水质指标变化率。水处理控制装置14根据该水质指标变化率控制臭氧气体注入装置19，调整臭氧气体注入量。