公开(公告)号：CN101489969A

公开(公告)日：2009-07-22

申请号：CN200780026000.7

申请日：2007-07-04

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 松川泰久 ,  白川大祐 ,  室谷英介 ,  代田直子 ,  武部洋子

IPC: C07C49/467 ,  C07C67/14 ,  C07C69/653 ,  C08F20/22

CPC classification number: C07C49/477 ,  C07C29/143 ,  C07C29/147 ,  C07C31/44 ,  C07C35/52 ,  C07C45/54 ,  C07C61/40 ,  C07C67/14 ,  C07C69/653 ,  C07C69/753 ,  C07C2602/42 ,  C08F220/24

Abstract: 本发明提供具有被高度氟化的降冰片烷结构的新的聚合性含氟化合物及由该化合物获得的聚合物。此外，还提供所述化合物和聚合物的制造方法及对于该制造方法有用的新的中间体。化合物(11)、化合物(12)等新化合物(1)及其聚合物。可作为该化合物(1)的制备中间体等的化合物(21)(22)等化合物(2)和化合物(31)(32M)等化合物(3)及它们的制造方法。其中，ZA～ZE表示－CH(－OC(O)C(CH3)＝CH2)－、－CF2－等，WA及WB表示F等，YA～YE表示－CH(－OH)－、－CF(－CH2OH)等，XA～XE表示－C(O)－、－CF2－等。

公开(公告)号：CN101421673A

公开(公告)日：2009-04-29

申请号：CN200780013266.8

申请日：2007-03-30

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 武部洋子 ,  王舒钟 ,  横小路修 ,  代田直子 ,  松川泰久 ,  白川大祐

IPC: G03F7/11 ,  C08F20/24 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明提供浸没式光刻用抗蚀剂保护膜材料。包含聚合物(F)的碱溶性的浸没式光刻用抗蚀剂保护膜材料，所述聚合物(F)包含通过具有含氟桥环结构的聚合性化合物(fm)的聚合而形成的重复单元(FU)。例如，重复单元(FU)为通过选自下述化合物(f1)～(f4)的化合物(f)的聚合而形成的重复单元；RF表示H、F、碳数1～3的烷基或碳数1～3的氟代烷基，XF表示F、OH或CH2OH。

公开(公告)号：CN102603507A

公开(公告)日：2012-07-25

申请号：CN201210027736.9

申请日：2007-07-04

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 松川泰久 ,  白川大祐 ,  室谷英介 ,  代田直子 ,  武部洋子

IPC: C07C49/477 ,  C07C69/753 ,  C07C61/15

CPC classification number: C07C49/477 ,  C07C29/143 ,  C07C29/147 ,  C07C31/44 ,  C07C35/52 ,  C07C45/54 ,  C07C61/40 ,  C07C67/14 ,  C07C69/653 ,  C07C69/753 ,  C07C2602/42 ,  C08F220/24

Abstract: 本发明提供具有被高度氟化的降冰片烷结构的新的聚合性含氟化合物及由该化合物获得的聚合物。此外，还提供所述化合物和聚合物的制造方法及对于该制造方法有用的新的中间体。化合物(11)、化合物(12)等新化合物(1)及其聚合物。可作为该化合物(1)的制备中间体等的化合物(21)(22)等化合物(2)和化合物(31)(32M)等化合物(3)及它们的制造方法。其中，ZA～ZE表示-CH(-OC(O)C(CH3)＝CH2)-、-CF2-等，WA及WB表示F等，YA～YE表示-CH(-OH)-、-CF(-CH2OH)等，XA～XE表示-C(O)-、-CF2-等。