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公开(公告)号:CN101689429A
公开(公告)日:2010-03-31
申请号:CN200880012854.4
申请日:2008-04-18
Applicant: 富士通株式会社
IPC: H01G9/055
CPC classification number: H01G9/045 , H01G9/02 , H01G9/028 , H01G9/055 , H01G9/151 , H01G11/48 , Y02E60/13 , Y10T428/12049 , Y10T428/12139
Abstract: 本发明涉及一种电极箔以及具有所述电极箔的电解电容器。所述电极箔具有如下结构:在金属箔表面上堆积有以具有介电常数的阀金属颗粒和/或陶瓷颗粒为主成分的金属颗粒和陶瓷颗粒,该电极箔是如下制造的:在气溶胶腔室的制膜室内设置铝箔,使铝粉末气溶胶化,将所述被气溶胶化的铝粉末向设置在所述制膜室内的铝箔喷射,在所述铝箔上堆积铝颗粒,由此制造电极箔。
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公开(公告)号:CN101689429B
公开(公告)日:2013-05-08
申请号:CN200880012854.4
申请日:2008-04-18
Applicant: 富士通株式会社
IPC: H01G9/055
CPC classification number: H01G9/045 , H01G9/02 , H01G9/028 , H01G9/055 , H01G9/151 , H01G11/48 , Y02E60/13 , Y10T428/12049 , Y10T428/12139
Abstract: 本发明涉及一种电极箔以及具有所述电极箔的电解电容器。所述电极箔具有如下结构:在金属箔表面上堆积有以具有介电常数的阀金属颗粒和/或陶瓷颗粒为主成分的金属颗粒和陶瓷颗粒,该电极箔是如下制造的:在气溶胶腔室的制膜室内设置铝箔,使铝粉末气溶胶化,将所述被气溶胶化的铝粉末向设置在所述制膜室内的铝箔喷射,在所述铝箔上堆积铝颗粒,由此制造电极箔。
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