量子电路、量子计算机和量子电路的制造方法

    公开(公告)号:CN116235091A

    公开(公告)日:2023-06-06

    申请号:CN202080105873.2

    申请日:2020-12-01

    Inventor: 宫武哲也

    Abstract: 量子电路的制造方法具有形成光波导的工序,该光波导在具有第1主面和第2主面且包含色心的金刚石层中与所述色心光耦合,所述光波导具有:包含所述色心的芯区域;以及设置于所述芯区域的周围的光封闭区域,所述光封闭区域的折射率低于所述芯区域的折射率,所述形成光波导的工序具有以下工序:在所述金刚石层上形成具备与所述色心分开的倾斜面;在所述倾斜面上形成反射膜;对所述反射膜的一部分照射飞秒激光,使被所述反射膜反射的飞秒激光会聚于所述色心的所述第1主面侧而使所述金刚石层的一部分的折射率降低,由此在所述色心的所述第1主面侧形成第1区域;对所述反射膜的另一部分照射飞秒激光,使被所述反射膜反射的飞秒激光会聚于所述色心的所述第2主面侧而使所述金刚石层的另一部分的折射率降低,由此在所述色心的所述第2主面侧形成第2区域;对所述第1主面的一部分照射飞秒激光,使飞秒激光在与所述第1主面平行的第1方向上会聚于所述芯区域的一侧而使所述金刚石层的另一部分的折射率降低,由此在所述芯区域的所述一侧形成第3区域;以及对所述第1主面的另一部分照射飞秒激光,使飞秒激光在所述第1方向上会聚于所述芯区域的另一侧而使所述金刚石层的另一部分的折射率降低,由此在所述芯区域的所述另一侧形成第4区域。

Patent Agency Ranking