压力测定用材料
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110720031A

    公开(公告)日:2020-01-21

    申请号:CN201880035554.1

    申请日:2018-05-11

    Inventor: 加藤进也

    Abstract: 本发明提供一种压力测定用材料,其具备:含有内含供电子性染料前体的微胶囊A的发色剂层配置在第1基材上的第1材料;及含有作为受电子性化合物的粘土物质的显色剂层配置在第2基材上的第2材料,显色剂层表面的算术平均粗糙度Ra满足1.1μm<Ra≤3.0μm。

    触控面板用导电部件及触控面板用导电部件的制造方法

    公开(公告)号:CN116917848A

    公开(公告)日:2023-10-20

    申请号:CN202280019338.4

    申请日:2022-02-18

    Inventor: 加藤进也

    Abstract: 本发明提供一种实现了兼具金属细线的电阻的低电阻化和弯曲性的触控面板用导电部件及触控面板用导电部件的制造方法。触控面板用导电部件具有透明绝缘基板、配置在透明绝缘基板上的底涂层、配置在底涂层上的第一金属细线、以及包覆第一金属细线的透明绝缘层。触控面板用导电部件的第一金属细线的厚度为350~1000nm,当获取与第一金属细线延伸的方向正交的方向上的触控面板用导电部件的十个部位的截面图像,并在各部位观察一根第一金属细线时,观察到在第一金属细线的侧面与透明绝缘层之间存在空隙的部位有六处以上。

    压力测定用材料
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110709681B

    公开(公告)日:2021-05-04

    申请号:CN201880035118.4

    申请日:2018-05-11

    Inventor: 加藤进也

    Abstract: 本发明提供一种压力测定用材料,其具备:第1材料,含有内含供电子性染料前体的微胶囊A的发色剂层配置在第1基材上;及第2材料,含有受电子性化合物的显色剂层配置在第2基材上,第1基材含有无机填料,第1基材中所含有的粒径为0.1μm以上的无机填料在无机填料整体中所占的比例为5体积%以下,显色剂层的表面的算术平均粗糙度Ra满足0.1μm≤Ra≤1.1μm。

    压力测定用材料
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110741237A

    公开(公告)日:2020-01-31

    申请号:CN201880036865.X

    申请日:2018-06-06

    Abstract: 本发明提供一种压力测定用材料,其含有:微胶囊A,内含供电子性染料前体;及微胶囊B,内含熔点或流点为30℃以下的溶剂及熔点超过30℃的极性有机化合物,并且不内含供电子性染料前体。

    压力测定用材料
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110709681A

    公开(公告)日:2020-01-17

    申请号:CN201880035118.4

    申请日:2018-05-11

    Inventor: 加藤进也

    Abstract: 本发明提供一种压力测定用材料,其具备:第1材料,含有内含供电子性染料前体的微胶囊A的发色剂层配置在第1基材上;及第2材料,含有受电子性化合物的显色剂层配置在第2基材上,第1基材含有无机填料,第1基材中所含有的粒径为0.1μm以上的无机填料在无机填料整体中所占的比例为5体积%以下,显色剂层的表面的算术平均粗糙度Ra满足0.1μm≤Ra≤1.1μm。

    压力测量用片材组、压力测量用片材

    公开(公告)号:CN113811750A

    公开(公告)日:2021-12-17

    申请号:CN202080033964.X

    申请日:2020-06-25

    Inventor: 加藤进也

    Abstract: 本发明的课题为提供一种在高温环境下使用时能够测量精确的压力分布的压力测量用片材组及压力测量用片材。本发明的压力测量用片材组具备:第1片材,其具有第1支承体及配置于第1支承体上且包含内含发色剂的微胶囊的第1层;及第2片材,其具有第2支承体及配置于第2支承体上且包含显色剂的第2层,其中,将第1片材及第2片材在220℃下加热10分钟的情况下,第1片材及第2片材的长度方向上的收缩率S1以及第1片材及第2片材的与长度方向正交的宽度方向上的收缩率S2均为‑0.5~2.0%。

    阻气膜及阻气膜的制造方法

    公开(公告)号:CN108136728A

    公开(公告)日:2018-06-08

    申请号:CN201680061324.3

    申请日:2016-10-03

    Abstract: 本发明提供一种在高温高湿环境下也具有高阻隔性的阻气膜及其制造方法。阻气膜依次包括膜基材、二氧化硅层及与所述二氧化硅层直接接触的无机层,上述二氧化硅层含有在硅原子和氧原子之间至少含有共价键的二氧化硅高分子及分子量为200以上且沸点为230℃以上的胺。一种阻气膜的制造方法,其包括:将含有硅化合物及分子量为200以上且沸点为230℃以上的胺的涂布液涂布到膜基材上,以形成含有硅化合物的涂层;用真空紫外线照射含有上述硅化合物的涂层,以形成含有在硅原子与氧原子之间至少具有共价键的二氧化硅高分子的二氧化硅层;及通过蒸镀法或溅射法在上述二氧化硅层的表面上形成无机层。

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