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公开(公告)号:CN101221262B
公开(公告)日:2011-07-27
申请号:CN200710149079.4
申请日:2007-09-07
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G02B5/30 , G02B1/04 , G02F1/1335
CPC classification number: C08G73/02 , G02B1/105 , G02B1/14 , G02B5/0226 , G02B5/0242 , G02B5/0278 , Y10T428/1041 , Y10T428/25
Abstract: 一种光学膜,其包括透明支撑体、和包含热和/或电离辐射固化树脂和折射率为1.60或更大的有机树脂颗粒的硬涂层,其中将光学膜暴露在80℃和相对湿度90%的环境中500小时之前和之后,整体光束透射率的百分比变化为5%或更少。
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公开(公告)号:CN101221262A
公开(公告)日:2008-07-16
申请号:CN200710149079.4
申请日:2007-09-07
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G02B5/30 , G02B1/04 , G02F1/1335
CPC classification number: C08G73/02 , G02B1/105 , G02B1/14 , G02B5/0226 , G02B5/0242 , G02B5/0278 , Y10T428/1041 , Y10T428/25
Abstract: 一种光学膜,其包括透明支撑体、和包含热和/或电离辐射固化树脂和折射率为1.60或更大的有机树脂颗粒的硬涂层,其中将光学膜暴露在80℃和相对湿度90%的环境中500小时之前和之后,整体光束透射率的百分比变化为5%或更少。
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公开(公告)号:CN116917848A
公开(公告)日:2023-10-20
申请号:CN202280019338.4
申请日:2022-02-18
Applicant: 富士胶片株式会社
Inventor: 加藤进也
IPC: G06F3/041
Abstract: 本发明提供一种实现了兼具金属细线的电阻的低电阻化和弯曲性的触控面板用导电部件及触控面板用导电部件的制造方法。触控面板用导电部件具有透明绝缘基板、配置在透明绝缘基板上的底涂层、配置在底涂层上的第一金属细线、以及包覆第一金属细线的透明绝缘层。触控面板用导电部件的第一金属细线的厚度为350~1000nm,当获取与第一金属细线延伸的方向正交的方向上的触控面板用导电部件的十个部位的截面图像,并在各部位观察一根第一金属细线时,观察到在第一金属细线的侧面与透明绝缘层之间存在空隙的部位有六处以上。
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公开(公告)号:CN110709681B
公开(公告)日:2021-05-04
申请号:CN201880035118.4
申请日:2018-05-11
Applicant: 富士胶片株式会社
Inventor: 加藤进也
IPC: B32B7/023
Abstract: 本发明提供一种压力测定用材料,其具备:第1材料,含有内含供电子性染料前体的微胶囊A的发色剂层配置在第1基材上;及第2材料,含有受电子性化合物的显色剂层配置在第2基材上,第1基材含有无机填料,第1基材中所含有的粒径为0.1μm以上的无机填料在无机填料整体中所占的比例为5体积%以下,显色剂层的表面的算术平均粗糙度Ra满足0.1μm≤Ra≤1.1μm。
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公开(公告)号:CN113811750A
公开(公告)日:2021-12-17
申请号:CN202080033964.X
申请日:2020-06-25
Applicant: 富士胶片株式会社
Inventor: 加藤进也
Abstract: 本发明的课题为提供一种在高温环境下使用时能够测量精确的压力分布的压力测量用片材组及压力测量用片材。本发明的压力测量用片材组具备:第1片材,其具有第1支承体及配置于第1支承体上且包含内含发色剂的微胶囊的第1层;及第2片材,其具有第2支承体及配置于第2支承体上且包含显色剂的第2层,其中,将第1片材及第2片材在220℃下加热10分钟的情况下,第1片材及第2片材的长度方向上的收缩率S1以及第1片材及第2片材的与长度方向正交的宽度方向上的收缩率S2均为‑0.5~2.0%。
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公开(公告)号:CN108136728A
公开(公告)日:2018-06-08
申请号:CN201680061324.3
申请日:2016-10-03
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种在高温高湿环境下也具有高阻隔性的阻气膜及其制造方法。阻气膜依次包括膜基材、二氧化硅层及与所述二氧化硅层直接接触的无机层,上述二氧化硅层含有在硅原子和氧原子之间至少含有共价键的二氧化硅高分子及分子量为200以上且沸点为230℃以上的胺。一种阻气膜的制造方法,其包括:将含有硅化合物及分子量为200以上且沸点为230℃以上的胺的涂布液涂布到膜基材上,以形成含有硅化合物的涂层;用真空紫外线照射含有上述硅化合物的涂层,以形成含有在硅原子与氧原子之间至少具有共价键的二氧化硅高分子的二氧化硅层;及通过蒸镀法或溅射法在上述二氧化硅层的表面上形成无机层。
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