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公开(公告)号:CN104364917B
公开(公告)日:2017-03-15
申请号:CN201380031117.X
申请日:2013-05-15
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: H01L33/0075 , H01L33/0025 , H01L33/007 , H01L33/025 , H01L33/06 , H01L33/12 , H01L33/22 , H01L33/24 , H01L33/32 , H01L2933/0033
Abstract: 氮化物半导体发光元件(1)具备:基板(3)、设置在基板(3)上的缓冲层(5)、设置在缓冲层化物半导体层、设置在n侧氮化物半导体层上的MQW发光层(14)、和设置在MQW发光层(14)上的p侧氮化物半导体层,关于作为构成氮化物半导体发光元件(1)的各层的结晶面的(004)面的X射线的摇摆曲线半峰宽度ω(004)为40arcsec以下,或者关于(102)面的X射线的摇摆曲线半峰宽度ω(102)为130arcsec以下,同一工作电流下的25℃时的光输出P(25)和80℃时的光输出P(80)的比率P(80)/P(25)为95%以上。(5)上的基底层(7)、设置在基底层(7)上的n侧氮
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公开(公告)号:CN104364917A
公开(公告)日:2015-02-18
申请号:CN201380031117.X
申请日:2013-05-15
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: H01L33/0075 , H01L33/0025 , H01L33/007 , H01L33/025 , H01L33/06 , H01L33/12 , H01L33/22 , H01L33/24 , H01L33/32 , H01L2933/0033 , H01L33/20
Abstract: 氮化物半导体发光元件(1)具备:基板(3)、设置在基板(3)上的缓冲层(5)、设置在缓冲层(5)上的基底层(7)、设置在基底层(7)上的n侧氮化物半导体层、设置在n侧氮化物半导体层上的MQW发光层(14)、和设置在MQW发光层(14)上的p侧氮化物半导体层,关于作为构成氮化物半导体发光元件(1)的各层的结晶面的(004)面的X射线的摇摆曲线半峰宽度ω(004)为40arcsec以下,或者关于(102)面的X射线的摇摆曲线半峰宽度ω(102)为130arcsec以下,同一工作电流下的25℃时的光输出P(25)和80℃时的光输出P(80)的比率P(80)/P(25)为95%以上。
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