奥替普拉在制备皮肤紫外线防护、抗光损伤药物中的用途

    公开(公告)号:CN112535684A

    公开(公告)日:2021-03-23

    申请号:CN201910898103.7

    申请日:2019-09-20

    Abstract: 本发明属于生物医药技术领域,涉及奥替普拉在制备皮肤紫外线防护、抗光损伤表型药物中的应用。本发明经实验表明,奥替普拉能够提高紫外线所下调的光损伤成纤维细胞的活性,降低光损伤成纤维细胞中β‑半乳糖苷酶染色阳性的细胞比例,增加光损伤成纤维细胞细胞外基质的合成同时降低衰老相关分泌表型的表达,通过NRF‑2途径降低紫外线导致的光损伤成纤维细胞中ROS的表达水平,即在皮肤紫外线防护、抗光损伤中具有重要作用。所述的奥替普拉可用于制备皮肤紫外线防护、抗光损伤表型药物尤其是制备外用药物制剂。

    奥替普拉在制备皮肤紫外线防护、抗紫外线损伤药物中的用途

    公开(公告)号:CN112535684B

    公开(公告)日:2023-09-08

    申请号:CN201910898103.7

    申请日:2019-09-20

    Abstract: 本发明属于生物医药技术领域,涉及奥替普拉在制备皮肤紫外线防护、抗光损伤表型药物中的应用。本发明经实验表明,奥替普拉能够提高紫外线所下调的光损伤成纤维细胞的活性,降低光损伤成纤维细胞中β‑半乳糖苷酶染色阳性的细胞比例,增加光损伤成纤维细胞细胞外基质的合成同时降低衰老相关分泌表型的表达,通过NRF‑2途径降低紫外线导致的光损伤成纤维细胞中ROS的表达水平,即在皮肤紫外线防护、抗光损伤中具有重要作用。所述的奥替普拉可用于制备皮肤紫外线防护、抗光损伤表型药物尤其是制备外用药物制剂。

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