后加载磁场霍尔推力器高性能无侵蚀壁面形貌设计方法

    公开(公告)号:CN114483504A

    公开(公告)日:2022-05-13

    申请号:CN202210120096.X

    申请日:2022-02-07

    Abstract: 后加载磁场霍尔推力器高性能无侵蚀壁面形貌设计方法,涉及霍尔推力器领域。为了解决现有后加载技术中,放电通道壁面倒角形貌设计受磁力线约束,受设计、加工与装配因素影响难以保证零侵蚀的问题。步骤1、定义磁力线特征值为磁力线与通道中心线交点的磁场强度与最大磁场强度之比;步骤2、使放电通道出口与磁极端面平齐,并使放电通道内壁面倒角和外壁面倒角均与选取的磁力线特征值的磁力线相切;步骤3、保持磁力线与内壁面和外壁面在近阳极端端点位置不变,将内壁面的近放电通道出口端端点和外壁面的近放电通道出口端端点均向远离通道中心线方向移动,所述移动范围为大于等于0毫米且小于等于1毫米。用于设计防护离子溅射的放电通道壁面。

    后加载磁场霍尔推力器高性能无侵蚀壁面形貌设计方法

    公开(公告)号:CN114483504B

    公开(公告)日:2022-07-19

    申请号:CN202210120096.X

    申请日:2022-02-07

    Abstract: 后加载磁场霍尔推力器高性能无侵蚀壁面形貌设计方法,涉及霍尔推力器领域。为了解决现有后加载技术中,放电通道壁面倒角形貌设计受磁力线约束,受设计、加工与装配因素影响难以保证零侵蚀的问题。步骤1、定义磁力线特征值为磁力线与通道中心线交点的磁场强度与最大磁场强度之比;步骤2、使放电通道出口与磁极端面平齐,并使放电通道内壁面倒角和外壁面倒角均与选取的磁力线特征值的磁力线相切;步骤3、保持磁力线与内壁面和外壁面在近阳极端端点位置不变,将内壁面的近放电通道出口端端点和外壁面的近放电通道出口端端点均向远离通道中心线方向移动,所述移动范围为大于等于0毫米且小于等于1毫米。用于设计防护离子溅射的放电通道壁面。

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