电化学微纳加工设备
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104098066A

    公开(公告)日:2014-10-15

    申请号:CN201410346603.7

    申请日:2014-07-21

    Abstract: 电化学微纳加工设备,它属于一种纳米加工装置。为解决现有的电化学微纳加工设备成本过高、电化学加工技术应用不完善的问题。隔振基座包括台面、支架横梁以及基座,台面固定安装在基座上端面,台面上可拆卸安装有支架横梁,X向直线导轨固定平放于台面上,支架横梁垂直于X向直线导轨设置,水平旋转组件固定在X向直线导轨上,水平调整部件固定在水平旋转组件上,Y向直线导轨固定在支架横梁的前侧面上,Z向直线导轨固定在Y向直线导轨上,电极逼近部件固定在Z向直线导轨上。本发明具有精度高、加工效果好等优点,用于工件的电化学微纳加工。

    一种高精度微小型空气静压转台

    公开(公告)号:CN104625765A

    公开(公告)日:2015-05-20

    申请号:CN201410739115.2

    申请日:2014-12-08

    CPC classification number: B23Q1/38

    Abstract: 本发明提供了一种高精度微小型空气静压转台。本发明解决了目前常用的高精度微小型空气静压转台组成零件较多,不易实现特别高的精度要求和动平衡,并且整体系统的体积较大,特别是高度尺寸较大的问题;解决了由通常所采用的降低转台整体高度的方式所造成的低稳定性以及低承受倾覆力矩的能力的问题;解决了转台加工生产过程中需加工多个轴套与轴的工作面所造成生产成本问题。它包括:转台机座、锥形气浮轴套、主轴系统和转台电机。本发明在转台生产过程中所需加工的轴套与轴工作面仅为相应的两个锥面,相比于以往的高精度空气静压转台有所减少,降低了生产成本。具有装配简单、精度保持性好等优点,可用于多种加工形式的精密和超精密加工设备上。

    表面涂抛擦设备
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN106622877B

    公开(公告)日:2019-03-19

    申请号:CN201611230533.4

    申请日:2016-12-27

    Abstract: 表面涂抛擦设备,属于涂抛擦设备技术领域。为现有的边界润滑膜涂覆方式自动化水平低、工作效率低、成膜质量控制困难问题。本发明包括安装基座、Y向直线导轨、C轴旋转工作台、支架横梁、X向直线导轨、Z向直线导轨及抛光头角度调整组件,安装基座上表面可拆卸安装有支架横梁,Y向直线导轨固定在安装基座上表面,支架横梁与Y向直线导轨呈垂直关系布置,Y向直线导轨上表面可拆卸安装有C轴旋转工作台,支架横梁的前侧面安装有X向直线导轨,Z向直线导轨安装于X向直线导轨上,抛光头角度调整组件可拆卸安装在Z向直线导轨上。本发明结构简单、成本低,操作方便,控制简单,可对平面型零件、外圆柱面型零件、内圆柱面型零件进行表面涂抛擦。

    一种高精度微小型空气静压转台

    公开(公告)号:CN104625765B

    公开(公告)日:2016-08-17

    申请号:CN201410739115.2

    申请日:2014-12-08

    Abstract: 本发明提供了一种高精度微小型空气静压转台。本发明解决了目前常用的高精度微小型空气静压转台组成零件较多,不易实现特别高的精度要求和动平衡,并且整体系统的体积较大,特别是高度尺寸较大的问题;解决了由通常所采用的降低转台整体高度的方式所造成的低稳定性以及低承受倾覆力矩的能力的问题;解决了转台加工生产过程中需加工多个轴套与轴的工作面所造成生产成本问题。它包括:转台机座、锥形气浮轴套、主轴系统和转台电机。本发明在转台生产过程中所需加工的轴套与轴工作面仅为相应的两个锥面,相比于以往的高精度空气静压转台有所减少,降低了生产成本。具有装配简单、精度保持性好等优点,可用于多种加工形式的精密和超精密加工设备上。

    表面涂抛擦设备
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106622877A

    公开(公告)日:2017-05-10

    申请号:CN201611230533.4

    申请日:2016-12-27

    CPC classification number: B05C9/12 B05C13/00

    Abstract: 表面涂抛擦设备,属于涂抛擦设备技术领域。为现有的边界润滑膜涂覆方式自动化水平低、工作效率低、成膜质量控制困难问题。本发明包括安装基座、Y向直线导轨、C轴旋转工作台、支架横梁、X向直线导轨、Z向直线导轨及抛光头角度调整组件,安装基座上表面可拆卸安装有支架横梁,Y向直线导轨固定在安装基座上表面,支架横梁与Y向直线导轨呈垂直关系布置,Y向直线导轨上表面可拆卸安装有C轴旋转工作台,支架横梁的前侧面安装有X向直线导轨,Z向直线导轨安装于X向直线导轨上,抛光头角度调整组件可拆卸安装在Z向直线导轨上。本发明结构简单、成本低,操作方便,控制简单,可对平面型零件、外圆柱面型零件、内圆柱面型零件进行表面涂抛擦。

    电化学微纳加工设备
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104098066B

    公开(公告)日:2016-01-20

    申请号:CN201410346603.7

    申请日:2014-07-21

    Abstract: 电化学微纳加工设备,它属于一种纳米加工装置。为解决现有的电化学微纳加工设备成本过高、电化学加工技术应用不完善的问题。隔振基座包括台面、支架横梁以及基座,台面固定安装在基座上端面,台面上可拆卸安装有支架横梁,X向直线导轨固定平放于台面上,支架横梁垂直于X向直线导轨设置,水平旋转组件固定在X向直线导轨上,水平调整部件固定在水平旋转组件上,Y向直线导轨固定在支架横梁的前侧面上,Z向直线导轨固定在Y向直线导轨上,电极逼近部件固定在Z向直线导轨上。本发明具有精度高、加工效果好等优点,用于工件的电化学微纳加工。

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