大尺寸CuI晶体的生长方法

    公开(公告)号:CN100587129C

    公开(公告)日:2010-02-03

    申请号:CN200710171815.6

    申请日:2007-12-06

    Applicant: 同济大学

    Abstract: 本发明属于晶体生长技术领域,具体涉及一种大尺寸CuI晶体的生长方法。本发明采用溶液降温与溶剂蒸发相结合的技术,具有设备简单、价格低廉、生长温度低和生长过程容易调控等优点。晶体外形呈长方体,尺寸达到厘米量级。所生长出的CuI晶体为γ相,其纯度高、缺陷少、形貌好和尺寸大,因而作为新一代超快闪烁体,在超高计数率X-射线、γ射线和电子束测量等方面都有着重要价值,同时还可以用做快离子导体。

    大尺寸CuI晶体的生长方法

    公开(公告)号:CN101255599A

    公开(公告)日:2008-09-03

    申请号:CN200710171815.6

    申请日:2007-12-06

    Applicant: 同济大学

    Abstract: 本发明属于晶体生长技术领域,具体涉及一种大尺寸CuI晶体的生长方法。本发明采用溶液降温与溶剂蒸发相结合的技术,具有设备简单、价格低廉、生长温度低和生长过程容易调控等优点。晶体外形呈长方体,尺寸达到厘米量级。所生长出的CuI晶体为γ相,其纯度高、缺陷少、形貌好和尺寸大,因而作为新一代超快闪烁体,在超高计数率X-射线、γ射线和电子束测量等方面都有着重要价值,同时还可以用做快离子导体。

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