背入射式TiO2紫外光探测器及其制备方法

    公开(公告)号:CN101562208A

    公开(公告)日:2009-10-21

    申请号:CN200910067032.2

    申请日:2009-06-02

    Applicant: 吉林大学

    CPC classification number: Y02P70/521

    Abstract: 本发明属于半导体光电探测器件领域,具体涉及一种以石英为衬底,以纳米TiO2薄膜为基本紫外光探测材料,以Ni为金属电极的背入射式紫外光探测器及其制备方法。该探测器以石英为衬底,采用M-S-M(金属-半导体-金属)结构。该紫外光探测器的制作方法是:采用溶胶-凝胶技术,在石英衬底上生长一层TiO2纳米薄膜,然后再在制备好的TiO2薄膜上通过磁控溅射的方法蒸发一层薄Ni实现电极接触,采用光刻技术得到Ni插指状电极。本发明制备的MSM平面双肖特基势垒结构紫外光探测器,采用背入射方式工作,可大幅提高器件的响应度。器件对波长250nm~350nm的紫外线具有良好的检测性能。

    背入射式TiO2紫外光探测器及其制备方法

    公开(公告)号:CN101562208B

    公开(公告)日:2012-03-14

    申请号:CN200910067032.2

    申请日:2009-06-02

    Applicant: 吉林大学

    CPC classification number: Y02P70/521

    Abstract: 本发明属于半导体光电探测器件领域,具体涉及一种以石英为衬底,以纳米TiO2薄膜为基本紫外光探测材料,以Ni为金属电极的背入射式紫外光探测器及其制备方法。该探测器以石英为衬底,采用M-S-M(金属-半导体-金属)结构。该紫外光探测器的制作方法是:采用溶胶-凝胶技术,在石英衬底上生长一层TiO2纳米薄膜,然后再在制备好的TiO2薄膜上通过磁控溅射的方法蒸发一层薄Ni实现电极接触,采用光刻技术得到Ni插指状电极。本发明制备的MSM平面双肖特基势垒结构紫外光探测器,采用背入射方式工作,可大幅提高器件的响应度。器件对波长250nm~350nm的紫外线具有良好的检测性能。

Patent Agency Ranking