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公开(公告)号：CN119341554A
公开(公告)日：2025-01-21
申请号：CN202411474246.2
申请日：2024-10-22
Applicant: 吉林大学
Abstract: 本发明提供的一种基于线性反馈算法的光学锁相环系统及方法，涉及激光控制技术领域。本发明包含光学模块、锁频锁相模块与反馈控制模块。光学模块得到待锁定拍频电信号，鉴频鉴相模块将其与参考信号相比较，得到控制信号，经由反馈控制模块处理后得到反馈信号控制激光器，形成光学锁相环的闭环锁定。本发明通过在反馈控制模块中添加了环路增益调节器，当拍频电信号与参考信号频率相差较大时，提高环路增益，相差较低时，降低环路增益，让光学锁相环一直工作在较为适应的环境下，较大的提升了光学锁相环的性能。
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公开(公告)号：CN111708257B
公开(公告)日：2021-09-03
申请号：CN202010640565.1
申请日：2020-07-06
Applicant: 吉林大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种全息光栅扫描光刻曝光量监测及控制方法，涉及全息光栅制作技术领域，解决现有全息光栅扫描光刻技术存在曝光时间长，制作效率低，以及采用静态曝光监测方法无法满足使用要求等问题，本发明无需在曝光前进行大量样片的制作和测试。在一次全息光栅正式曝光前，进行用于监测曝光量的预曝光，并对扫描运动速度进行优化选择。在扫描运动速度确定后，直接进入全息光栅的正式曝光。曝光量监测控制及后续光刻过程可实现自动化，使光栅制作效率提高，同时根据不同光栅基底上光刻胶涂层参数变化调整曝光量，有效保证了曝光量工艺参数可控性，对提升全息光栅扫描光刻制造工艺水平，提高光栅制造效率，保证大面积全息光栅制作成功率。
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公开(公告)号：CN111708257A
公开(公告)日：2020-09-25
申请号：CN202010640565.1
申请日：2020-07-06
Applicant: 吉林大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种全息光栅扫描光刻曝光量监测及控制方法，涉及全息光栅制作技术领域，解决现有全息光栅扫描光刻技术存在曝光时间长，制作效率低，以及采用静态曝光监测方法无法满足使用要求等问题，本发明无需在曝光前进行大量样片的制作和测试。在一次全息光栅正式曝光前，进行用于监测曝光量的预曝光，并对扫描运动速度进行优化选择。在扫描运动速度确定后，直接进入全息光栅的正式曝光。曝光量监测控制及后续光刻过程可实现自动化，使光栅制作效率提高，同时根据不同光栅基底上光刻胶涂层参数变化调整曝光量，有效保证了曝光量工艺参数可控性，对提升全息光栅扫描光刻制造工艺水平，提高光栅制造效率，保证大面积全息光栅制作成功率。
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公开(公告)号：CN114740557B
公开(公告)日：2022-11-29
申请号：CN202210041105.6
申请日：2022-01-14
Applicant: 吉林大学
IPC: G02B5/18
Abstract: 消像差变栅距光栅扫描光刻条纹线密度设计方法，涉及全息光栅制作的技术领域，本发明提出消像差变栅距光栅扫描光刻的干涉条纹线密度设计方法，利用该方法可根据变栅距光栅刻槽密度目标函数，完成扫描光刻过程中干涉条纹线密度函数的设计，按此干涉条纹线密度设计函数，变化干涉条纹的线密度，最终得到的变周期光栅刻槽密度满足光栅刻槽密度目标函数的要求。按照本方法可设计光刻干涉条纹的线密度变化规律。提高变栅距光栅的刻槽密度的精度，保证曝光对比度工艺参数的可控性，对提升变栅距光栅扫描光刻制作水平，提高光栅制作成功率具有重要意义。
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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：CN119692198A
公开(公告)日：2025-03-25
申请号：CN202411867313.7
申请日：2024-12-18
Applicant: 吉林大学
IPC: G06F30/27 , G06N3/006 , G06F30/17 , G06F119/08
Abstract: 一种基于布谷鸟搜索算法的磁光阱梯度磁场线圈设计方法，涉及三维磁光阱中的梯度磁场线圈设计领域，解决现有梯度磁场线圈的设计方法存在线圈参数的计算复杂度增加，手动设计线圈参数的方法较为低效等问题，包括以下步骤：步骤S1：初始化算法参数；步骤S2：设置磁光阱梯度磁场线圈的初始参数；步骤S3：构建梯度磁场线圈轴线上的磁场强度模型及磁场梯度模型；步骤S4：设置需要优化的目标函数；步骤S5：采用布谷鸟搜索算法对目标函数的各项参数进行迭代优化；步骤S6：输出优化后的各项参数及优化后的结果。根据本方法可以方便根据需求快速设计磁光阱梯度磁场线的参数，以满足原子重力仪对原子俘获效率和冷却质量的磁场需求。
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公开(公告)号：CN114415278B
公开(公告)日：2023-03-31
申请号：CN202210041023.1
申请日：2022-01-14
Applicant: 吉林大学
Abstract: 平面变栅距光栅扫描光刻干涉条纹线密度设计方法，涉及全息光栅制作的技术领域，本发明提出平面变栅距光栅扫描光刻的干涉条纹线密度设计方法，利用该方法可根据变栅距光栅刻槽密度目标函数，完成扫描光刻过程中干涉条纹线密度函数的设计，按此干涉条纹线密度设计函数，变化干涉条纹的线密度，最终得到的变周期光栅刻槽密度满足光栅刻槽密度目标函数的要求。按照本方法可设计光刻干涉条纹的线密度变化规律。提高变栅距光栅的刻槽密度的精度，保证曝光对比度工艺参数的可控性，对提升变栅距光栅扫描光刻制作水平，提高光栅制作成功率具有重要意义。
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公开(公告)号：CN107144615B
公开(公告)日：2019-03-15
申请号：CN201710544416.3
申请日：2017-07-06
Applicant: 吉林大学
IPC: G01N27/30
Abstract: 本发明涉及一种掺银三氧化二铁纳米材料的甲醛气体传感器及其制备方法，属于气体传感器技术领域。传感器的敏感材料为掺杂Ag的Fe2O3纳米材料，粒径为300～500nm。采用Fe2O3/Ag作为敏感材料，不但应用了其较高比表面积，还有效的利用Ag的低电阻率提高灵敏度。掺杂碳纳米管的Fe2O3/Ag纳米材料经过烧结后会形成多孔结构，增大了比表面积，有效的提高了响应时间。本发明采用的工艺简单、制得的器件体积小、灵敏度高，因而具有重要的应用价值。
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公开(公告)号：CN108692807A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201810435040.7
申请日：2018-04-27
Applicant: 吉林大学
IPC: G01H9/00
CPC classification number: G01H9/004
Abstract: 本发明公开了一种光纤分布式声波监测系统，包括激光光源、第一光耦合器、光纤传感器节点、光分束器、第一偏振控制器、第二偏振控制器、第一干涉调制装置、第二干涉调制装置及解调装置，还包括源速率调整模块、效用优化模块和系统布置参数优化模块。本发明通过物理模型的构建仿真实现了各部件布置参数和工作模式参数的最优化，能够尽可能地保证传感信号不丢失，并实现系统效益的最大化；系统自带光纤传感器节点工作情况的实时监测调节功能，从而可以及时的发现光纤传感器节点的故障情况。
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