公开(公告)号：CN104080946B

公开(公告)日：2016-06-01

申请号：CN201280038501.8

申请日：2012-07-26

Applicant: 吉布尔·施密德有限责任公司

Inventor： C·施密德 ,  D·哈贝尔曼 ,  J·豪恩格斯 ,  C·阿特马 ,  T·斯图尔特 ,  K·普罗文查

IPC: C23C16/458 ,  C23C16/54 ,  C23C16/455 ,  H01L31/18

CPC classification number: C23C16/54 ,  C23C16/0209 ,  C23C16/345 ,  C23C16/402 ,  C23C16/403 ,  C23C16/4408 ,  C23C16/4412 ,  C23C16/453 ,  C23C16/4551 ,  C23C16/45521 ,  C23C16/4557 ,  C23C16/45578 ,  C23C16/4558 ,  C23C16/45595 ,  C23C16/458 ,  C23C16/4581 ,  C23C16/466 ,  C23C16/545 ,  H01L21/02271 ,  H01L21/67115 ,  H01L21/67706 ,  H01L21/6776 ,  H01L31/02167 ,  H01L31/02168 ,  H01L31/022425 ,  H01L31/18 ,  H01L31/1884 ,  H01L31/206 ,  Y02E10/50

Abstract: 一种用于在制造太阳能电池时在衬底上制造薄层的装置，其中，采用APCVD方法在高于250℃的温度情况下敷设薄层，在该装置中，衬底在连续运行中在水平的输送带上被输送，并通过APCVD涂层法被涂层。在此，输送带具有输送轮，所述输送轮由耐热的非金属的材料优选陶瓷。在输送带的背离涂层装置的一侧设置有加热机构和/或喷淋气体供应机构。

公开(公告)号：CN104080946A

公开(公告)日：2014-10-01

申请号：CN201280038501.8

申请日：2012-07-26

Applicant: 吉布尔·施密德有限责任公司

Inventor： C·施密德 ,  D·哈贝尔曼 ,  J·豪恩格斯 ,  C·阿特马 ,  T·斯图尔特 ,  K·普罗文查

IPC: C23C16/458 ,  C23C16/54 ,  C23C16/455 ,  H01L31/18

CPC classification number: C23C16/54 ,  C23C16/0209 ,  C23C16/345 ,  C23C16/402 ,  C23C16/403 ,  C23C16/4408 ,  C23C16/4412 ,  C23C16/453 ,  C23C16/4551 ,  C23C16/45521 ,  C23C16/4557 ,  C23C16/45578 ,  C23C16/4558 ,  C23C16/45595 ,  C23C16/458 ,  C23C16/4581 ,  C23C16/466 ,  C23C16/545 ,  H01L21/02271 ,  H01L21/67115 ,  H01L21/67706 ,  H01L21/6776 ,  H01L31/02167 ,  H01L31/02168 ,  H01L31/022425 ,  H01L31/18 ,  H01L31/1884 ,  H01L31/206 ,  Y02E10/50

Abstract: 一种用于在制造太阳能电池时在衬底上制造薄层的装置，其中，采用APCVD方法在高于250℃的温度情况下敷设薄层，在该装置中，衬底在连续运行中在水平的输送带上被输送，并通过APCVD涂层法被涂层。在此，输送带具有输送轮，所述输送轮由耐热的非金属的材料优选陶瓷。在输送带的背离涂层装置的一侧设置有加热机构和/或喷淋气体供应机构。