一种局部可控近场的光学旋涡生成系统

    公开(公告)号:CN114815274B

    公开(公告)日:2023-02-14

    申请号:CN202210458304.7

    申请日:2022-04-28

    Applicant: 厦门大学

    Inventor: 罗晔 王绪涛

    Abstract: 本发明涉及光学技术领域,具体涉及一种局部可控近场的光学旋涡生成系统,包括衬底模块、波导传播模块、光源模块与元件模块;所述波导传播模块由两个正交的波导组成,所述波导传播模块设置于衬底模块的顶部,所述波导传播模块顶部设置有一层薄膜层;所述光源模块,用于输出四束相干光;光源模块通过光学引导件将四束相干光分别输入到波导传播模块四个端口的中心处;所述元件模块设置于薄膜层正交处的中央位置;本发明通过合理的结构设置使得电磁波被电介质表面的全内反射限制在电介质的内部,生产光学漩涡的转换效率高,适宜进一步推广应用。

    一种局部可控近场的光学旋涡生成系统

    公开(公告)号:CN114815274A

    公开(公告)日:2022-07-29

    申请号:CN202210458304.7

    申请日:2022-04-28

    Applicant: 厦门大学

    Inventor: 罗晔 王绪涛

    Abstract: 本发明涉及光学技术领域,具体涉及一种局部可控近场的光学旋涡生成系统,包括衬底模块、波导传播模块、光源模块与元件模块;所述波导传播模块由两个正交的波导组成,所述波导传播模块设置于衬底模块的顶部,所述波导传播模块顶部设置有一层薄膜层;所述光源模块,用于输出四束相干光;光源模块通过光学引导件将四束相干光分别输入到波导传播模块四个端口的中心处;所述元件模块设置于薄膜层正交处的中央位置;本发明通过合理的结构设置使得电磁波被电介质表面的全内反射限制在电介质的内部,生产光学漩涡的转换效率高,适宜进一步推广应用。

    一种局部可控近场的光学旋涡生成系统

    公开(公告)号:CN217156955U

    公开(公告)日:2022-08-09

    申请号:CN202221011739.9

    申请日:2022-04-28

    Applicant: 厦门大学

    Inventor: 罗晔 王绪涛

    Abstract: 本实用新型涉及光学技术领域,具体涉及一种局部可控近场的光学旋涡生成系统,包括衬底模块、波导传播模块、光源模块与元件模块;所述波导传播模块由两个正交的波导组成,所述波导传播模块设置于衬底模块的顶部,所述波导传播模块顶部设置有一层薄膜层;所述光源模块,用于输出四束相干光;光源模块通过光学引导件将四束相干光分别输入到波导传播模块四个端口的中心处;所述元件模块设置于薄膜层正交处的中央位置;本实用新型通过合理的结构设置使得电磁波被电介质表面的全内反射限制在电介质的内部,生产光学漩涡的转换效率高,适宜进一步推广应用。

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