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公开(公告)号:CN117187863A
公开(公告)日:2023-12-08
申请号:CN202310936699.1
申请日:2023-07-28
Applicant: 南京林业大学
IPC: C25B11/091 , C25B1/30 , C25B1/50
Abstract: 本发明公开了一种富C‑SH(边缘巯基)的纳米缺陷多孔硫掺杂碳材料(S‑C)及其制备方法与应用,材料中S元素含量可达到0.8at.%‑2.0at.%,C‑SH结构的含量为0.1at.%‑0.9at.%,材料中分布有众多的微孔、介孔和大孔,比表面积为200m2g‑1‑900m2g‑1。使用木质素作为碳源,木质素磺酸钠作为硫源,前处理后制备成前驱体,在惰性气体下进行高温退火,制备出富C‑SH的纳米缺陷多孔硫掺杂碳材料。由于C‑SH(边缘巯基)对于二电子氧还原反应具有较高的活性,该材料能够高效地将氧气电还原为过氧化氢。
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公开(公告)号:CN115537850A
公开(公告)日:2022-12-30
申请号:CN202211252024.7
申请日:2022-10-13
Applicant: 南京林业大学
IPC: C25B1/30 , C25B1/50 , C01B32/15 , C25B11/04 , C25B11/091
Abstract: 本发明公开了一种高B‑S(成键)含量的纳米缺陷多孔碳材料(BS‑C)及其制备方法与应用,材料中B元素含量可达到1.5at%‑6at%,S元素含量可达到0.5at%‑2at%,材料中分布有微孔、介孔和大孔,比表面积为700m2g‑1‑1300m2g‑1。使用木质素磺酸钠作为碳源,硼酸作为硼源,前处理后制备成前驱体,高温退火,制备出高B‑S含量的纳米缺陷多孔碳材料。高温退火过程可以使B与C、S之间形成特殊的化学键;硼酸在退火时不仅能作为硼源向碳材料提供成键的B原子,同时也促进材料的多孔结构和纳米缺陷结构的产生;该材料能够高效电催化两电子氧还原反应。
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