一种抗单粒子烧毁辐照效应的GaN整流器件及其制备方法

    公开(公告)号:CN119170656B

    公开(公告)日:2025-05-06

    申请号:CN202411676733.7

    申请日:2024-11-22

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 本发明提供了一种抗单粒子烧毁辐照效应的GaN整流器件及其制备方法,属于半导体技术领域。该GaN整流器件包括背面阴极金属层、n+氮化镓衬底层和n‑氮化镓漂移层,n‑氮化镓漂移层上开设有多个环形槽结构且内部生长有p+氧化镍层,n‑氮化镓漂移层上方设有肖特基接触金属层,p+氧化镍层上方设置有欧姆接触金属层并设置绝缘钝化层进行隔离。绝缘钝化层上开设有第一接触通孔和第二接触通孔,上方生长有相互隔离的正面第一阳极金属层和正面第二阳极金属层,分别通过第一接触通孔和第二接触通孔与肖特基接触金属层和欧姆接触金属层连接。能够解决现有GaN整流器因空穴在阳极附近积累,产生辐照损伤甚至单粒子烧毁的技术问题。

    一种辐照场景下半导体器件特性参数监测系统及方法

    公开(公告)号:CN118091356B

    公开(公告)日:2024-08-02

    申请号:CN202410469102.1

    申请日:2024-04-18

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 本发明公开了一种辐照场景下半导体器件特性参数监测系统及方法,涉及半导体辐照、半导体特性参数测试领域。本系统包括分别设置于辐照保护单元a和辐照保护单元b中的漏极测试单元、栅极测试单元、特性参数监测单元、驱动单元、信息处理控制单元和信息传输单元,漏极测试单元、栅极测试单元分别向待测半导体器件发送测试信号,待测半导体器件通过特性参数监测单元连接信息处理控制单元监测辐照条件下待测半导体器件特性参数变化情况。本发明无需测试人员进出辐照间即可实现远距离智能化监测不同辐照条件下多个半导体器件的特性参数,具有操作简单、体积小、测试数量可达到万颗器件、测试结果准确快捷、判断器件工作状态等优点。

    一种抗单粒子烧毁辐照效应的GaN整流器件及其制备方法

    公开(公告)号:CN119170656A

    公开(公告)日:2024-12-20

    申请号:CN202411676733.7

    申请日:2024-11-22

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 本发明提供了一种抗单粒子烧毁辐照效应的GaN整流器件及其制备方法,属于半导体技术领域。该GaN整流器件包括背面阴极金属层、n+氮化镓衬底层和n‑氮化镓漂移层,n‑氮化镓漂移层上开设有多个环形槽结构且内部生长有p+氧化镍层,n‑氮化镓漂移层上方设有肖特基接触金属层,p+氧化镍层上方设置有欧姆接触金属层并设置绝缘钝化层进行隔离。绝缘钝化层上开设有第一接触通孔和第二接触通孔,上方生长有相互隔离的正面第一阳极金属层和正面第二阳极金属层,分别通过第一接触通孔和第二接触通孔与肖特基接触金属层和欧姆接触金属层连接。能够解决现有GaN整流器因空穴在阳极附近积累,产生辐照损伤甚至单粒子烧毁的技术问题。

    一种辐照场景下半导体器件特性参数监测系统及方法

    公开(公告)号:CN118091356A

    公开(公告)日:2024-05-28

    申请号:CN202410469102.1

    申请日:2024-04-18

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 本发明公开了一种辐照场景下半导体器件特性参数监测系统及方法,涉及半导体辐照、半导体特性参数测试领域。本系统包括分别设置于辐照保护单元a和辐照保护单元b中的漏极测试单元、栅极测试单元、特性参数监测单元、驱动单元、信息处理控制单元和信息传输单元,漏极测试单元、栅极测试单元分别向待测半导体器件发送测试信号,待测半导体器件通过特性参数监测单元连接信息处理控制单元监测辐照条件下待测半导体器件特性参数变化情况。本发明无需测试人员进出辐照间即可实现远距离智能化监测不同辐照条件下多个半导体器件的特性参数,具有操作简单、体积小、测试数量可达到万颗器件、测试结果准确快捷、判断器件工作状态等优点。

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