一种灰度曝光制备2.5D微纳结构的方法

    公开(公告)号:CN113173559A

    公开(公告)日:2021-07-27

    申请号:CN202110470835.3

    申请日:2021-04-29

    Abstract: 本发明公开了一种灰度曝光制备2.5D微纳结构的方法,属于半导体学中的微观结构技术领域。包括:将2.5D微纳结构的高度分成2N个等级,建立对应的N张二元曝光版图,其中N>I;再获取所述N张二元曝光版图的并集,建立一个额外的补偿版图;在硅片上旋涂光刻胶后进行N+1次分层曝光,获取包含2N种高度的光刻胶层;以光刻胶层作掩膜进行干法刻蚀制备纳米压印模板,通过软膜热固化纳米压印,再加上紫外固化纳米压印的二次转印即可批量生产。本发明的纳米压印模板图形精度高,具有2N个不同高度,且通过软膜转印、纳米压印、干法刻蚀制备的微纳结构效率高、成品率高、尺寸精确。

    一种将生物质萃取产物作为添加剂应用于配煤炼焦的方法

    公开(公告)号:CN104673346A

    公开(公告)日:2015-06-03

    申请号:CN201510081203.2

    申请日:2015-02-13

    Abstract: 本发明公开了一种将生物质萃取产物作为添加剂应用于配煤炼焦的方法,包括以下步骤:(1)使用有机溶剂萃取提质生物质,得到高分子量生物质萃取物和低分子量生物质萃取物;(2)将生物质萃取物用于配煤炼焦:将高分子量生物质萃取物和低分子量生物质萃取物的至少一种按0.5%~3%的质量百分比与配合煤混合炼焦。通过将低分子量生物质萃取物和高分子量生物质萃取物的至少一种与配合煤混合炼焦,能够在普通配合煤的基础上,降低焦炭粒焦反应性PRI,并大大提高制得的焦炭的强度,从而在确保制得焦炭强度好、焦炭反应性低的前提下,增加配合煤中弱黏煤或不黏煤的使用比例,降低炼焦成本。

    一种灰度曝光制备2.5D微纳结构的方法

    公开(公告)号:CN113173559B

    公开(公告)日:2024-04-19

    申请号:CN202110470835.3

    申请日:2021-04-29

    Abstract: 本发明公开了一种灰度曝光制备2.5D微纳结构的方法,属于半导体学中的微观结构技术领域。包括:将2.5D微纳结构的高度分成2N个等级,建立对应的N张二元曝光版图,其中N>I;再获取所述N张二元曝光版图的并集,建立一个额外的补偿版图;在硅片上旋涂光刻胶后进行N+1次分层曝光,获取包含2N种高度的光刻胶层;以光刻胶层作掩膜进行干法刻蚀制备纳米压印模板,通过软膜热固化纳米压印,再加上紫外固化纳米压印的二次转印即可批量生产。本发明的纳米压印模板图形精度高,具有2N个不同高度,且通过软膜转印、纳米压印、干法刻蚀制备的微纳结构效率高、成品率高、尺寸精确。

    一种将生物质萃取产物作为添加剂应用于配煤炼焦的方法

    公开(公告)号:CN104673346B

    公开(公告)日:2017-01-11

    申请号:CN201510081203.2

    申请日:2015-02-13

    Abstract: 本发明公开了一种将生物质萃取产物作为添加剂应用于配煤炼焦的方法,包括以下步骤:量生物质萃取物和低分子量生物质萃取物;(2)将生物质萃取物用于配煤炼焦:将高分子量生物质萃取物和低分子量生物质萃取物的至少一种按0.5%~3%的质量百分比与配合煤混合炼焦。通过将低分子量生物质萃取物和高分子量生物质萃取物的至少一种与配合煤混合炼焦,能够在普通配合煤的基础上,降低焦炭粒焦反应性PRI,并大大提高制得的焦炭的强度,从而在确保制得焦炭强度好、焦炭反应性低的前提下,增加配合煤中弱黏煤或不黏煤的使用比例,降低炼焦成本。(1)使用有机溶剂萃取提质生物质,得到高分子

    一种亚微米结构光栅的制备方法

    公开(公告)号:CN111308597A

    公开(公告)日:2020-06-19

    申请号:CN202010197831.8

    申请日:2020-03-19

    Abstract: 本发明公开了一种亚微米结构光栅的制备方法,属于半导体学中的微观结构技术领域,具体包括:在硅片上旋涂电子束抗蚀剂后进行电子束曝光,获取电子束抗蚀剂层;以电子束抗蚀剂层作掩膜进行干法刻蚀制备纳米压印模板;将纳米压印模板上的亚微米结构转移至热固化透明软膜上;并在制备光栅的衬底上旋涂紫外固化压印胶;通过纳米压印方法将热固化透明软膜上的亚微米结构转移至紫外固化压印胶上;利用干法刻蚀方法,将紫外固化压印胶上的亚微米图形转移至制备光栅的衬底上。本发明通过电子束曝光、干法刻蚀制备的纳米压印模板图形精度高,表面光滑。通过软膜转印、纳米压印、干法刻蚀制备的亚微米结构光栅均匀性好、成品率高、尺寸精确、成本低。

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