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发明公开
一种用于层析粒子图像测速重建粒子场的后处理方法审中-实审

公开(公告)号：CN115564895A

公开(公告)日：2023-01-03

申请号：CN202211210392.5

申请日：2022-09-30

Applicant: 华中科技大学

Inventor： 杨华 , 张志远 , 尹周平

IPC: G06T17/00

Abstract: 本发明公开了一种用于层析粒子图像测速重建粒子场的后处理方法，包括如下步骤：(1)获取待测流场的重建粒子场；(2)对重建粒子场进行第一次去卷积操作，得到第一预测粒子场；(3)根据第一预测粒子场和重建粒子场进行各向异性卷积核估计；(4)利用最新估计得到的各向异性卷积核对重建粒子场进行去卷积操作，得到第二预测粒子场；(5)根据第二预测粒子场和重建粒子场进行各向异性卷积核估计；(6)重复步骤(4)和(5)，直至满足迭代停止条件；(7)利用步骤(6)估计得到的各向异性卷积核对重建粒子场进行去卷积操作，得到修复粒子场。与现有技术相比，本发明具有有效恢复原始粒子球形形状，显著抑制重建粒子场中鬼影粒子的特点。

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